合肥工业大学马孟超获国家专利权
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龙图腾网获悉合肥工业大学申请的专利抗干扰单像素成像边缘检测方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115953423B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211737269.9，技术领域涉及：G06T7/13；该发明授权抗干扰单像素成像边缘检测方法及系统是由马孟超;梁文博;高一;邓华夏;钟翔设计研发完成，并于2022-12-30向国家知识产权局提交的专利申请。
本抗干扰单像素成像边缘检测方法及系统在说明书摘要公布了：本发明的一种抗干扰单像素成像边缘检测方法及系统，其方法是将哈达码基图案与二阶微分算子的卷积结果，即哈达码基图案的边缘作为调制图案，并用于直接提取未知物体的边缘，而无需任何先验成像。其中ESI方案是一种差分式的边缘敏感的单像素成像边缘检测方案，可以有效的抑制噪声并消除静态光干扰，这是传统成像方式无法做到的。SESI方案是一种单步式的边缘检测方案，虽然是非差分式的，但仍然能消除静态光干扰，并且与已有的基于单像素成像的边缘检测方法相比，使得边缘检测所需要的调制图案至少减少了一半。本发明可以直接对物体进行边缘检测，无需事先成像，不受物体成像质量的限制，且环境光的干扰不会对直接边缘检测的结果造成显著影响。
本发明授权抗干扰单像素成像边缘检测方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种抗干扰单像素成像边缘检测方法，其特征在于，包括以下步骤， 在边缘敏感单像素成像中，ESI调制模式是通过对P+x,y和1-P+x,y与二阶微分算子执行卷积运算生成的，即 其中表示卷积运算，kx,y是二阶微分算子卷积核，P+x,y是哈达码基图案，通过公式2获得， x，y和u，v分别是空间域和哈达码域的坐标，H-1·表示哈达码逆变换； 由公式1生成的一系列的调制图案Q+x,y和Q-x,y使用DMD投影到目标物体上，单像素探测器收集到来自物体反射或透射的光强信号；使用设定的调制模式来照明对象时，所获取的光谱由下式计算， Hu,v＝B+1u,v-B-1u,v3 其中B+1u,v和B-1u,v是对应于Q+x,y和Q-x,y调制图案照度的测量值，对Hu,v执行哈达码逆变换便直接获取物体的边缘；公式3为差分运算，因而具有抗外界环境光干扰的能力。
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