北京北方华创微电子装备有限公司李晓辉获国家专利权
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龙图腾网获悉北京北方华创微电子装备有限公司申请的专利静电卡盘、下电极组件及半导体处理设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118197889B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211600607.4，技术领域涉及：H01J37/32；该发明授权静电卡盘、下电极组件及半导体处理设备是由李晓辉;张照磊设计研发完成，并于2022-12-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本静电卡盘、下电极组件及半导体处理设备在说明书摘要公布了：本申请公开了一种静电卡盘、下电极组件及半导体处理设备，静电卡盘包括：卡盘基座，包括相对设置的顶面和底面；第一凹槽，设置于顶面；电极探针，由底面贯穿至顶面，并且从第一凹槽穿出；进气孔，由底面贯穿至顶面，并且与第一凹槽连通，用于向第一凹槽通入吹扫气体；第二凹槽，设置于顶面，并且一端与第一凹槽连通，当吹扫气体从进气孔进入第一凹槽后，先流经电极探针再进入第二凹槽；第一出气孔，由底面贯穿至顶面，并且与第二凹槽的另一端连通，用于将吹扫气体排出；卡盘本体，设置于卡盘基座的顶面，将第一凹槽和第二凹槽封盖以形成相应的气流通道。本申请可以解决静电卡盘上形成冷凝水并由此会发生放电、打火的问题。
本发明授权静电卡盘、下电极组件及半导体处理设备在权利要求书中公布了：1.一种静电卡盘，其特征在于，包括： 卡盘基座，包括相对设置的顶面和底面； 第一凹槽，设置于所述顶面； 电极探针，由所述底面贯穿至所述顶面，并且从所述第一凹槽穿出； 进气孔，由所述底面贯穿至所述顶面，并且与所述第一凹槽连通，用于向所述第一凹槽通入吹扫气体； 第二凹槽，设置于所述顶面，并且一端与所述第一凹槽连通，当所述吹扫气体从所述进气孔进入所述第一凹槽后，先流经所述电极探针再进入所述第二凹槽； 第一出气孔，由所述底面贯穿至所述顶面，并且与所述第二凹槽的另一端连通，用于将所述吹扫气体排出； 卡盘本体，设置于所述卡盘基座的顶面，将所述第一凹槽和所述第二凹槽封盖以形成相应的气流通道。
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