华海清科股份有限公司刘远航获国家专利权
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龙图腾网获悉华海清科股份有限公司申请的专利一种晶圆边缘处理装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115741291B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211562823.4，技术领域涉及：B24B7/22；该发明授权一种晶圆边缘处理装置是由刘远航;马旭;李小娟设计研发完成，并于2022-12-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种晶圆边缘处理装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种晶圆边缘处理装置，包括：升降组件，与晶圆减薄设备中的支撑架连接；伺服旋转组件，与所述升降组件连接；处理组件，连接在所述伺服旋转组件的底部，其包括底盘，底盘的底面设有弧形磨抛件和喷嘴；气液接头，通过所述处理组件内部的气液路与喷嘴连通。
本发明授权一种晶圆边缘处理装置在权利要求书中公布了：1.一种晶圆边缘处理装置，其特征在于，包括： 升降组件，与晶圆减薄设备中的支撑架连接； 伺服旋转组件，与所述升降组件连接； 处理组件，连接在所述伺服旋转组件的底部，其包括底盘，底盘的底面设有弧形磨抛件和喷嘴，升降组件驱动处理组件移动至抵接晶圆，伺服旋转组件驱动处理组件旋转，从而利用弧形磨抛件打磨晶圆的边缘； 多个弧形磨抛件均匀间隔地设置在底盘的底面靠近边缘的位置，弧形磨抛件覆盖晶圆的部分边缘，弧形磨抛件包括弧形油石和弧形毛刷，或，弧形抛光垫和弧形毛刷； 气液接头，通过所述处理组件内部的气液路与喷嘴连通，喷嘴将液体喷射至晶圆表面进行清洗，喷嘴沿底盘的半径方向设置有多个，位于外侧的喷嘴设置为倾斜喷射，倾斜方向朝向边缘； 在边缘处理过程中，底盘与晶圆相对倾斜，底盘相较晶圆圆心更靠近晶圆边缘，弧形磨抛件与晶圆采用半接触方式进行处理。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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