浙江光特科技有限公司龚正致获国家专利权
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龙图腾网获悉浙江光特科技有限公司申请的专利一种金属刻蚀方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115642084B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211377393.9，技术领域涉及：H01L21/3213；该发明授权一种金属刻蚀方法是由龚正致;叶瑾琳;万远涛设计研发完成，并于2022-11-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种金属刻蚀方法在说明书摘要公布了：本发明提供了一种金属刻蚀方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、在晶圆衬底上的介质层上淀积金属层；S2、在所述金属层上使用原始金属光刻版进行第一次光刻；S3、对所述金属层进行第一次干法刻蚀，后去除光刻胶；S4、设置保护金属光刻版，对所述金属层进行第二次光刻；S5、进行第二次干法刻蚀，去除侧壁的金属残留，后去除光刻胶。该方法提供了一种采取两次干法刻蚀的金属刻蚀工艺,使得侧壁不存在金属残余,也可以达到小尺寸器件的金属相关参数要求。
本发明授权一种金属刻蚀方法在权利要求书中公布了：1.一种金属刻蚀方法，其特征在于，包括如下步骤： S1、在晶圆衬底上的介质层上淀积金属层，所述晶圆衬底先形成有包括台阶的落差大的器件或地形； S2、在所述金属层上使用原始金属光刻版进行第一次光刻； S3、对所述金属层进行第一次干法刻蚀，后去除光刻胶； S4、设置保护金属光刻版，对所述金属层进行第二次光刻；其中，所述保护金属光刻版相对于所述原始金属光刻版沿第一方向延伸一正偏差值，所述第一方向垂直于所述台阶侧壁，所述正偏差值不小于所述第二次光刻沿所述第一方向的刻蚀长度； S5、进行第二次干法刻蚀，去除所述台阶侧壁的金属残留，后去除光刻胶。
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