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龙图腾网获悉深圳先进电子材料国际创新研究院申请的专利一种酯型光敏聚酰亚胺复合材料、制备方法及半导体装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115509088B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202211064479.6，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权一种酯型光敏聚酰亚胺复合材料、制备方法及半导体装置是由李金辉;张家林;张国平;孙蓉设计研发完成，并于2022-09-01向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种酯型光敏聚酰亚胺复合材料、制备方法及半导体装置在说明书摘要公布了：本申请提供的酯型光敏聚酰亚胺材料及其制备方法，通过引入含有低极性氟原子的氟化石墨烯量子点来降低介电常数，因为氟原子具有强的电负性，可以牢牢的固定电子，从而降低极化率；小尺寸、大比表面积的氟化石墨烯量子点更易在光敏聚酰亚胺基质中均匀分散，从而提高其综合性能，降低介电常数；且含氟基团具有疏水性，还可以防止材料因吸水而导致性能的降低。此外，通过调节甲基丙烯酸酯基团比例、反应温度、时间来控制分子量及接枝率，从而实现其高灵敏度。另外，本申请还提供了一种包括所述酯型光敏聚酰亚胺材料的半导体装置。

本发明授权一种酯型光敏聚酰亚胺复合材料、制备方法及半导体装置在权利要求书中公布了：1.一种酯型光敏聚酰亚胺复合材料，其特征在于，包括如下成分： A成分：聚酰胺酸酯； B成分：光引发剂； C成分：交联剂； D成分：氟化石墨烯量子点；及 E成分：溶剂； 所述B为OXE01； 所述C为二甲基丙烯酸三缩四乙二醇酯； 所述B成分含量相对于所述A成分100质量份为0.5～5质量份； 所述C成分含量相对于所述A成分100质量份为5～25质量份； 所述D成分含量相对于所述A成分100质量份为0.1～1质量份； 所述的酯型光敏聚酰亚胺复合材料的制备方法，包括下述步骤： 将氟化石墨烯量子点溶于所述溶剂中，超声30-90分钟处理，再加入所述光引发剂、所述交联剂以及聚酰胺酸酯得到氟化石墨烯量子点聚酰胺酸酯复合溶液； 将所述氟化石墨烯量子点聚酰胺酸酯复合溶液涂敷于基底表面，再经曝光、显影后形成图案； 对所述图案进行热亚胺化处理得到所述酯型光敏聚酰亚胺复合材料； 所述氟化石墨烯量子点通过下述方法制备得到： 将氟化碳源置于有机溶剂中，再进行超声处理，静置后取上层清液进行离心，离心后取出上层清液去除所述有机溶剂，最后干燥得到氟化石墨烯量子点； 所述碳源为氟化碳纤维； 所述聚酰胺酸酯通过下述方法制备得到： 在氮气氛围下，于40-45℃温度下，将二酐、甲基丙烯酸羟乙酯、吡啶及有机溶剂混合反应2-10小时，得到混合溶液； 在0-25℃氮气氛围下，在所述混合溶液中加入二胺并搅拌5-10小时，使其进行缩聚反应形成甲基丙烯酸羟乙酯封端的聚酰胺酸溶液； 保持温度及氛围，在所述聚酰胺酸溶液加入三氟乙酸酐并搅拌0.5-3小时使其异酰亚胺化； 保持在氮气氛围下，于50-55℃温度下，在异酰亚胺化的聚酰胺酸溶液中加入甲基丙烯酸羟乙酯并搅拌8-12小时以形成光敏聚酰亚胺前驱体溶液； 将所述光敏聚酰亚胺前驱体溶液滴入到去离子水中以除去未反应的物质，再通过抽滤、干燥得到所述聚酰胺酸酯； 所述二酐为均苯四甲酸二酐； 所述二胺为4,4'-二氨基二苯醚4,4'-二氨基二苯醚；在对所述图案进行热亚胺化处理得到所述酯型光敏聚酰亚胺复合材料的步骤中，具体包括： 于氮气氛围下，采用阶梯升温的方式对所述图案进行热亚胺化处理，所述阶梯升温的方式为100℃下保温0.5-1.5小时、200℃下保温0.5-1.5小时、300℃下保温0.5-1.5小时、350℃下保温0.5-1.5小时，升温速率为2-10℃每分钟，然后冷却至室温，将所述图案从所述基底上剥离下来，得到具有低介电常数的酯型光敏聚酰亚胺复合材料。

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