罗门哈斯电子材料韩国有限公司;罗门哈斯电子材料有限责任公司J·J·李获国家专利权
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龙图腾网获悉罗门哈斯电子材料韩国有限公司;罗门哈斯电子材料有限责任公司申请的专利用于光致抗蚀剂底层的组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115407606B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210579372.9，技术领域涉及：G03F7/004；该发明授权用于光致抗蚀剂底层的组合物是由J·J·李;J·H·沈;S·金;朴琎洪;B·波普尔设计研发完成，并于2022-05-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本用于光致抗蚀剂底层的组合物在说明书摘要公布了：一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含：第一聚合物，该第一聚合物包含可交联基团；第二聚合物，该第二聚合物包含：第一重复单元以及第二重复单元，该第一重复单元包括包含光酸产生剂的重复单元，该第二重复单元包含羟基取代的C1‑30烷基、羟基取代的C3‑30环烷基或羟基取代的C6‑30芳基；酸催化剂；以及溶剂。
本发明授权用于光致抗蚀剂底层的组合物在权利要求书中公布了：1.一种光致抗蚀剂底层组合物，其包含： 第一聚合物，所述第一聚合物包含异氰脲酸酯重复单元和可交联基团； 第二聚合物，所述第二聚合物包含： 第一重复单元，所述第一重复单元包括包含光酸产生剂的重复单元，以及 第二重复单元，所述第二重复单元包含羟基取代的C1-30烷基、羟基取代的C3-30环烷基、或羟基取代的C6-30芳基； 酸催化剂；以及 溶剂。
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