北京华卓精科科技股份有限公司王军获国家专利权
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龙图腾网获悉北京华卓精科科技股份有限公司申请的专利一种光刻设备中的硅片承载装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115101467B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210509497.4，技术领域涉及：H01L21/683；该发明授权一种光刻设备中的硅片承载装置是由王军;张利;朱啸爽设计研发完成，并于2022-05-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种光刻设备中的硅片承载装置在说明书摘要公布了：本发明涉及硅片承载技术领域，具体而言，涉及一种光刻设备中的硅片承载装置。该光刻设备中的硅片承载装置包括承载体，承载体的顶部用于承载硅片，承载体的顶部边缘部位固接有一圈阻挡环，阻挡环环绕在承载体的承载区域外，且阻挡环的靠近内环的部位与承载体之间存在环形通道；承载体上开设有第一气道，第一气道具有第一入口和第一出口，第一入口用于与真空泵相接；第一出口包括多个主出口和若干辅出口，主出口与阻挡环相对设置，并与环形通道相通，辅出口与承载区域的边缘相对，主出口的横截面积的总和大于辅出口的横截面积的总和。本发明提供的光刻设备中的硅片承载装置，在对硅片进行吸附支撑时，可使硅片不易翘曲，可减缓硅片上方的液体流失速度，从而，可保证硅片的曝光精度。
本发明授权一种光刻设备中的硅片承载装置在权利要求书中公布了：1.一种光刻设备中的硅片承载装置，其特征在于，包括承载体100，所述承载体100的顶部用于承载硅片300； 所述承载体100的顶部边缘部位固接有一圈阻挡环200，所述阻挡环200环绕在所述承载体100的承载区域外，且所述阻挡环的靠近内侧壁的部位与所述承载体之间存在环形通道； 所述承载体100上开设有第一气道110，所述第一气道110具有第一入口111和第一出口，所述第一入口111用于与真空泵相接；所述第一出口包括多个主出口112和若干辅出口113，所述主出口112与阻挡环200相对设置，且所述主出口112与所述环形通道相通，所述辅出口113与所述承载区域的边缘相对，多个所述主出口112的横截面积的总和大于所述辅出口113的横截面积的总和。
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