上海华力微电子有限公司潘卿峰获国家专利权
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龙图腾网获悉上海华力微电子有限公司申请的专利一种用于带走工艺腔室内残污的工艺方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114967608B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210420937.9，技术领域涉及：G05B19/418；该发明授权一种用于带走工艺腔室内残污的工艺方法是由潘卿峰;程鹏设计研发完成，并于2022-04-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于带走工艺腔室内残污的工艺方法在说明书摘要公布了：本发明提供一种用于带走工艺腔室内残污的工艺方法，包括：EAP在机台上对一个批次的控片建立一制造任务；EAP在机台上对每个控片对应建立一当前工艺任务，机台根据所有当前工艺任务对位于机台的工艺腔室中的控片运行虚拟工艺配方，以带走工艺腔室内的部分残污，并在机台完成所有当前工艺任务后，EAP删除所有当前工艺任务；步骤S3：EAP在机台上对每个控片对应建立一以后工艺任务，机台根据所有以后工艺任务运行虚拟工艺配方，以带走工艺腔室内的部分残污，并在机台完成所有以后工艺任务后，EAP删除所有以后工艺任务；至少一次循环步骤S3，以通过对一个批次的控片四次建立工艺任务，以全部带走机台的工艺腔室中的残污。
本发明授权一种用于带走工艺腔室内残污的工艺方法在权利要求书中公布了：1.一种用于带走工艺腔室内残污的工艺方法，其特征在于，包括以下步骤： 步骤S1：EAP在机台上对一个批次的控片建立一个制造任务，其中，一个批次的控片包括多个控片； 步骤S2：所述EAP在所述机台上对每个所述控片对应建立一当前工艺任务，所述机台根据所有所述当前工艺任务对位于所述机台的工艺腔室中的所述控片运行虚拟工艺配方，以带走所述工艺腔室内的部分残污，并在所述机台完成所有所述当前工艺任务后，所述EAP删除所有所述当前工艺任务，其中，所述控片在完成所述当前工艺任务后滞留于所述工艺腔室内； 步骤S3：所述EAP在所述机台上对每个所述控片对应建立一以后工艺任务，所述机台根据所有所述以后工艺任务运行虚拟工艺配方，以带走所述工艺腔室内的部分残污，并在所述机台完成所有所述以后工艺任务后，所述EAP删除所有所述以后工艺任务；以及 步骤S4：至少一次循环执行步骤S3，以在所述控片未移出所述工艺腔室的情况下带走所述工艺腔室内的剩余残污。
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