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京东方科技集团股份有限公司杨维获国家专利权

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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司申请的专利显示面板及其晶体管的制造方法、显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114628410B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202210272543.3,技术领域涉及:H10D86/01;该发明授权显示面板及其晶体管的制造方法、显示装置是由杨维;袁广才;宁策;王利忠;周天民;付雨婷;雷利平设计研发完成,并于2022-03-18向国家知识产权局提交的专利申请。

显示面板及其晶体管的制造方法、显示装置在说明书摘要公布了:提供了一种显示面板及其晶体管的制造方法、显示装置,属于显示技术领域。该方法中,在衬底的一侧形成第一栅金属层、有源层、栅绝缘层和第二栅金属层后,可以对有源层的目标部分进行导体化处理,然后再形成层间介定层和源漏金属层,并将源漏金属层通过贯穿层间介定层和栅绝缘层的过孔与导体化处理后的有源层搭接,得到晶体管。其中,因层间介定层包括至少两层绝缘材料层,故致密性和耐刻蚀性均较好。如此,避免了形成过孔时,层间介定层与第二栅金属层接触部分发生断裂,进而避免了显示面板出现显示异常的问题。

本发明授权显示面板及其晶体管的制造方法、显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示面板中晶体管的制造方法,其特征在于,所述方法包括: 在衬底的一侧形成第一栅金属层、有源层、栅绝缘层和第二栅金属层,所述第一栅金属层在所述衬底上的正投影和所述第二栅金属层在所述衬底上的正投影均位于所述有源层在所述衬底上的正投影内,所述第二栅金属层在所述衬底上的正投影还位于所述第一栅金属层在所述衬底上的正投影内,且位于所述栅绝缘层在所述衬底上的正投影内; 将所述有源层的目标部分导体化,所述目标部分在所述衬底上的正投影与所述第一栅金属层在所述衬底上的正投影不重叠; 在所述第二栅金属层远离所述衬底的一侧形成层间介定层,所述层间介定层包括依次层叠的至少两层绝缘材料层,且各层所述绝缘材料层的材料不同; 形成贯穿所述层间介定层与所述栅绝缘层的过孔; 在所述层间介定层远离所述衬底的一侧形成源漏金属层,并将所述源漏金属层通过所述过孔与所述有源层搭接,得到晶体管,且所述源漏金属层与所述有源层的搭接处在所述衬底上的正投影与所述第一栅金属层在所述衬底上的正投影不重叠,以及所述源漏金属层在所述衬底上的正投影与所述第一栅金属层在所述衬底上的正投影不重叠。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人京东方科技集团股份有限公司,其通讯地址为:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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