京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司王登宇获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利显示基板及显示装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114551554B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202210179252.X，技术领域涉及：H10K59/60；该发明授权显示基板及显示装置是由王登宇;郑克宁;林志宸;周俊毅设计研发完成，并于2022-02-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示基板及显示装置在说明书摘要公布了：本发明提供了一种显示基板及显示装置，属于显示技术领域。其中，显示基板，包括衬底基板、依次层叠设置在所述衬底基板上的驱动电路层、发光器件层和封装层，所述显示基板包括显示区和非显示区，所述显示区包括：第一显示区；和第二显示区，所述第二显示区在所述衬底基板上的正投影覆盖设置在所述显示基板远离出光侧的屏下传感区域在所述衬底基板上的正投影；所述第二显示区的像素密度小于所述第一显示区的像素密度，所述第二显示区的相邻两个像素之间包括透光部；所述驱动电路层包括无机绝缘层，所述透光部处的所述无机绝缘层的总膜厚小于200nm。本发明能够提升屏下传感器件的工作效果。
本发明授权显示基板及显示装置在权利要求书中公布了：1.一种显示基板，包括衬底基板、依次层叠设置在所述衬底基板上的驱动电路层、发光器件层和封装层，其特征在于，所述显示基板包括显示区和非显示区，所述显示区包括： 第一显示区；和 第二显示区，所述第二显示区在所述衬底基板上的正投影覆盖设置在所述显示基板远离出光侧的屏下传感区域在所述衬底基板上的正投影； 所述第二显示区的像素密度小于所述第一显示区的像素密度，所述第二显示区的相邻两个像素之间包括透光部； 所述驱动电路层包括无机绝缘层，所述透光部处的所述无机绝缘层的总膜厚小于200nm； 在相应位置形成有导电图形，在采用干法刻蚀对所述无机绝缘层进行刻蚀时，所述导电图形能够限定干法刻蚀的范围，通过对干法刻蚀的范围进行限定，能够使得所述无机绝缘层形成的凹槽的侧壁形成为台阶状。
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