上海微电子装备(集团)股份有限公司褚占占获国家专利权
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龙图腾网获悉上海微电子装备(集团)股份有限公司申请的专利光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116047866B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111266434.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备是由褚占占;李煜芝;赵晓伟设计研发完成，并于2021-10-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备，所述光刻设备的垂向控制方法包括：在扫描曝光过程中，使用基板调焦调平系统实时测量基板上表面形位置，并通过计算外推点位置把基板面形外推到物镜下方，从而获得当前时刻物镜视场下方基板面形测量值，所述基板面形测量值包含了工件台的瞬时垂向位置变化；同时，使用掩模台垂向传感器实时获得掩模台的位置变化，掩模台位置变化会引起焦面变化，把掩模台位置更新到曝光焦面上，获得当前时刻的曝光焦面；再控制工件台和物镜上可动镜片、物镜下可动镜片使基板面形和曝光焦面重合，从而能够解决面形测量时刻与曝光时刻运动台垂向位置变化对面形及焦面的影响的问题。
本发明授权光刻设备的垂向控制方法以及光刻设备在权利要求书中公布了：1.一种光刻设备的垂向控制方法，其特征在于，包括： 扫描曝光之前，通过基板调焦调平系统测量得到基板面形，通过掩模调焦调平系统测量得到掩模面形； 扫描曝光过程中，调焦调平系统闭环处理单元接收所述基板调焦调平系统实时测量得到的所述基板的上表面面形的测量值，并将所述基板外推至物镜阵列下方以获得当前时刻物镜阵列视场下方的基板面形测量值，所述调焦调平系统闭环处理单元接收掩膜台垂向传感器测量得到的掩膜台位置变化信息，并将所述掩模台更新至焦面位置上以获得当前时刻的曝光焦面；并且，所述调焦调平系统闭环处理单元接收工件台垂向传感器实时测量得到的工件台位置信息，并根据基板面形、掩模面形与工件台位置信息计算出工件台调整量以实时闭环控制工件台移动；调焦调平系统闭环处理单元根据基板面形计算出所述物镜阵列的物镜下可动镜片像面调整量以实时闭环控制物镜阵列的物镜下可动镜片移动，以使基板面形和曝光焦面重合。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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