佛山奥素博新科技有限公司请求不公布姓名获国家专利权
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龙图腾网获悉佛山奥素博新科技有限公司申请的专利一种含有超疏水结构的微流控芯片及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115957835B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111191184.0,技术领域涉及:B01L3/00;该发明授权一种含有超疏水结构的微流控芯片及其制备方法是由请求不公布姓名设计研发完成,并于2021-10-13向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种含有超疏水结构的微流控芯片及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明提供了一种含有超疏水结构的微流控芯片,属于微流控芯片技术领域,在疏水区内设置超疏水结构实现超疏水功能,超疏水结构是在液滴驱动电极阵列上方的绝缘层上制备而成,是具有特定形状的表面微米阵列或纳米阵列。本发明还提供一种含有超疏水结构的微流控芯片的制备方法,采用光刻技术将特定形状的微米阵列或纳米阵列图形转移到绝缘层上。本发明的含有超疏水结构的微流控芯片及其制备方法,避免了现有技术中采用进口含氟疏水材料的方式,能完全实现国产化,不再受国际贸易因素影响,同时也节省了采购和工艺成本,具有重要意义,适用性更广泛。
本发明授权一种含有超疏水结构的微流控芯片及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种含有超疏水结构的微流控芯片的制备方法,将所述微流控芯片范围划分为液滴驱动有效区和非有效区,疏水区的范围包含所述液滴驱动有效区的全部范围和非有效区的部分范围,非有效区的另一部分范围为芯片的外围区域;在所述液滴驱动有效区内设有液滴驱动电极阵列用于驱动液滴流动,在所述疏水区内设置超疏水结构实现超疏水功能,所述超疏水结构是在液滴驱动电极阵列上方的绝缘层上制备而成,是具有特定形状的表面微米阵列或纳米阵列,实现兼具绝缘和超疏水的功能;其特征在于,包括以下步骤: 在芯片基底上依次制作驱动电路、所述液滴驱动电极阵列和绝缘层; 采用光刻技术将特定形状的微米阵列或纳米阵列图形转移到绝缘层上。
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