株式会社日本触媒小柳津研一获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社日本触媒申请的专利含硫聚合物、其制造方法及含硫聚合物组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116235081B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180065391.3，技术领域涉及：C08G75/0268；该发明授权含硫聚合物、其制造方法及含硫聚合物组合物是由小柳津研一;松岛贯太;渡边清瑚;高山央;西尾博道;三浦智弘;中村润一;川濑健夫;藤林辉久;木村纯也设计研发完成，并于2021-09-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本含硫聚合物、其制造方法及含硫聚合物组合物在说明书摘要公布了：本发明的目的在于提供一种折射率高且能够适合用于光学用途的高分子材料。本发明涉及一种含硫聚合物，其为具有选自由下述通式1所示的结构单元A、下述通式2所示的结构单元B和下述通式3所示的结构单元C组成的组中的至少一种结构单元的聚合物，其中，上述聚合物具有反应性官能团上述通式1、2和3中，X1、X2和X3相同或不同，表示具有或不具有取代基的2价芳香族烃基。
本发明授权含硫聚合物、其制造方法及含硫聚合物组合物在权利要求书中公布了：1.一种含硫聚合物，其为具有选自由下述通式1所示的结构单元A、下述通式2所示的结构单元B和下述通式3所示的结构单元C组成的组中的至少一种结构单元的含硫聚合物，其特征在于， 所述结构单元A、所述结构单元B和所述结构单元C的合计含有比例相对于所述含硫聚合物的全部结构单元100摩尔％为80摩尔％以上， 所述含硫聚合物包含所述结构单元B，所述结构单元B的含有比例相对于所述含硫聚合物的全部结构单元100摩尔％为1摩尔％～100摩尔％，所述结构单元A和结构单元C的合计含有比例相对于所述含硫聚合物的全部结构单元100摩尔％为0～99摩尔％， 所述含硫聚合物具有反应性官能团， 所述反应性官能团为酸性官能团、碱性官能团或包含这些官能团的基团， 所述酸性官能团为选自由磷酸基、硫酸基、膦酸基、次膦酸基和硫醇基组成的组中的至少一种， 所述碱性官能团为选自由铵基、亚氨基和马来酰亚胺基组成的组中的至少一种， [化1] [化2] [化3] 式1、2和3中，X1、X2和X3相同或不同，表示具有或不具有取代基的亚苯基、亚萘基、亚蒽基、亚联苯基或三亚苯基。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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