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龙图腾网获悉株式会社V技术申请的专利投影曝光装置以及投影曝光方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN116171406B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180062968.5，技术领域涉及：G03F9/00；该发明授权投影曝光装置以及投影曝光方法是由榎本芳幸设计研发完成，并于2021-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。

本投影曝光装置以及投影曝光方法在说明书摘要公布了：投影曝光装置10具备：能够向掩模标记MM照射曝光光自身或与曝光光实质上相同波长的光即第一对准光L1的掩模标记照明用光源21；以及对准单元30，其具有能够向工件标记WM照射与曝光光不同波长的第二对准光L2的工件标记照明用光源31、摄像装置32和摄像光学系统40。摄像光学系统40具备：第一分色棱镜41，其将第一对准光L1和来自工件标记WM的光合成并向摄像装置32射出；以及光路长度变更光学系统42，其使第一对准光L1分支并汇聚，工件标记WM与掩模标记MM的像MMI相对于摄像装置32的光学位置关系相等。由此，能够提供即使小尺寸的曝光区域也能进行高精度对准的投影曝光装置以及投影曝光方法。

本发明授权投影曝光装置以及投影曝光方法在权利要求书中公布了：1.一种投影曝光装置，其特征在于， 所述投影曝光装置向掩模照射曝光光，利用投影透镜将形成于所述掩模的图案向工件投影，并将所述图案曝光于所述工件， 所述投影曝光装置具备： 掩模标记照明用光源，所述掩模标记照明用光源能够向所述掩模的对准标记照射所述曝光光自身或与所述曝光光实质上相同波长的光即第一对准光； 工件标记照明用光源，所述工件标记照明用光源能够向所述工件的对准标记照射与所述曝光光不同波长的第二对准光；以及 对准单元，所述对准单元具有：摄像装置，所述摄像装置获取所述工件的对准标记和基于所述第一对准光的所述掩模的对准标记的像；和摄像光学系统，所述摄像光学系统具有合成光学元件，所述合成光学元件将从所述掩模标记照明用光源射出并经过所述掩模和所述投影透镜后的所述第一对准光和来自所述工件的对准标记的光合成而得到的合成光向所述摄像装置射出，所述摄像光学系统用于使所述摄像装置获取所述掩模的对准标记的像和所述工件的对准标记作为图像， 所述摄像光学系统具有光路长度变更光学系统，所述光路长度变更光学系统使所述第一对准光从由所述合成光学元件合成的所述第一对准光和来自所述工件的对准标记的光分支并汇聚，以使第一对准光的从所述合成光学元件到所述摄像装置的光路长度比来自所述工件的对准标记的光的从所述合成光学元件到所述摄像装置的光路长度长， 由所述摄像装置获取的所述掩模的对准标记的像在所述光路长度变更光学系统的光路上成像， 所述工件的对准标记与所述掩模的对准标记的像相对于所述摄像装置的光学位置关系相等。

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