铠侠股份有限公司香川譲德获国家专利权
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龙图腾网获悉铠侠股份有限公司申请的专利邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114791690B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110941662.9，技术领域涉及：G03F1/36；该发明授权邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置是由香川譲德;马越俊幸设计研发完成，并于2021-08-17向国家知识产权局提交的专利申请。
本邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置在说明书摘要公布了：实施方式提供一种不管衬底的表面形状如何均能够适当修正邻近效应的邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置。实施方式的邻近效应修正方法中，根据从外部输入的描绘信息及从外部输入的衬底的表面形状信息，算出因电子束在衬底中背向散射而产生的背向散射束的能量分布，并根据所算出的能量分布来算出电子束的所需能量。描绘信息是用以通过照射电子束而在衬底上的抗蚀膜形成图案的信息，表面形状信息是关于相对于电子束的照射方向而具有不同高度的衬底的高度的信息。
本发明授权邻近效应修正方法、描绘方法及描绘装置在权利要求书中公布了：1.一种邻近效应修正方法，其特征在于包括： 从外部输入描绘信息，从外部输入衬底的表面形状信息， 将所述描绘信息分割为多个网格， 针对每个所述网格，从与其对应的所述表面形状信息中包含的信息判定是否存在斜坡或级差， 对存在所述斜坡或所述级差的所述网格，根据所述描绘信息及表面形状信息算出因电子束在所述衬底中背向散射而产生的背向散射束的能量分布， 根据算出的所述能量分布而算出所述电子束的所需能量， 所述描绘信息是用以通过所述电子束的照射而在所述衬底上的抗蚀膜形成图案的信息， 所述表面形状信息是关于相对于所述电子束的照射方向，具有高度不同的表面的所述衬底的高度的信息。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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