DIC株式会社杨少伟获国家专利权
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龙图腾网获悉DIC株式会社申请的专利氧化钆颗粒以及用于制造氧化钆颗粒的方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN117460699B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202180099127.1，技术领域涉及：C01F17/224；该发明授权氧化钆颗粒以及用于制造氧化钆颗粒的方法是由杨少伟;田渊穣;袁建军;赵伟;郭健设计研发完成，并于2021-06-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本氧化钆颗粒以及用于制造氧化钆颗粒的方法在说明书摘要公布了：本发明提供含有钼的氧化钆颗粒以及用于制造氧化钆颗粒的方法。本发明提供的用于制造所述氧化钆颗粒的方法，包含在钼化合物存在下煅烧钆化合物。
本发明授权氧化钆颗粒以及用于制造氧化钆颗粒的方法在权利要求书中公布了：1.一种氧化钆颗粒，包括钼， 通过所述氧化钆颗粒的XRF分析测定的相对于所述氧化钆颗粒的100质量％的三氧化二钆Gd2O3含量G1为70质量％到98质量％，以及 通过所述氧化钆颗粒的XRF分析测定的相对于所述氧化钆颗粒的100质量％的三氧化钼MoO3含量M1为1质量％到30质量％。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人DIC株式会社，其通讯地址为：日本东京板桥区坂下三丁目35番58号(邮递区号:174-8520)；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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