I-TEN公司F·加邦获国家专利权
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龙图腾网获悉I-TEN公司申请的专利由隔膜和多孔电极组成的组件的制造方法、由隔膜和多孔电极组成的组件以及包含所述组件的电化学装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115803903B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202180045769.3,技术领域涉及:H01M4/04;该发明授权由隔膜和多孔电极组成的组件的制造方法、由隔膜和多孔电极组成的组件以及包含所述组件的电化学装置是由F·加邦设计研发完成,并于2021-04-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本由隔膜和多孔电极组成的组件的制造方法、由隔膜和多孔电极组成的组件以及包含所述组件的电化学装置在说明书摘要公布了:本发明涉及一种制造电化学装置的方法,所述电化学装置选自由以下组成的组:容量大于1mAh的锂离子电池、电容器、超级电容器、电阻器、电感器、晶体管、光伏电池、燃料电池,实施由多孔电极和多孔隔膜组成的组件的制造方法,其中所述电极包括沉积在基板上的多孔层,孔隙度是在20%和60%之间按体积计,孔的平均直径小于50nm。
本发明授权由隔膜和多孔电极组成的组件的制造方法、由隔膜和多孔电极组成的组件以及包含所述组件的电化学装置在权利要求书中公布了:1.一种制造电化学装置的方法,所述电化学装置选自由以下组成的组:锂离子电池、钠离子电池、锂空气电池、光伏电池、燃料电池, 所述方法实施制造由多孔电极和多孔隔膜组成的组件的方法, 所述电极包括沉积在基板上的多孔层,所述层不含粘合剂,孔隙度按体积计在20%和60%之间,孔的平均直径小于50nm, 所述隔膜包括沉积在所述电极上的多孔无机层,所述多孔无机层不含粘合剂,孔隙度按体积计在25%和60%之间,孔的平均直径小于50nm, 所述制造方法的特征在于: (a)提供一种基板,第一胶体悬浮液或糊状物,其包括至少一种活性电极材料P的单分散初级纳米颗粒聚集体或附聚物,所述初级纳米颗粒的平均初级直径D50是在2nm和150nm之间,所述聚集体或附聚物的平均直径D50是在50nm和300nm之间,以及第二胶体悬浮液,其包括至少一种无机材料E的纳米颗粒聚集体或附聚物,所述纳米颗粒的平均初级直径D50是在2nm和100nm之间,所述聚集体或附聚物的平均直径D50是在50nm和300nm之间; (b)以步骤(a)中提供的所述胶体悬浮液或糊状物在所述基板的至少一个表面上沉积一层; (c)在将步骤(b)中得到的所述层与其中间基板分离之前或之后,干燥所述层,并通过压缩和或加热将其固结,得到多孔无机层; (d)将导电材料涂层沉积在所述多孔层的孔隙上和孔隙内,从而形成所述多孔电极; (e)通过选自以下组成的组的技术:电泳法、印刷法以及涂布法,以步骤(a)中提供的所述第二胶体悬浮液在所述步骤(d)中得到的所述多孔电极上沉积一层多孔无机层; (f)将步骤(e)中所得结构的所述多孔无机层进行干燥,并在低于500℃的温度下进行热处理,从而得到由多孔电极和多孔隔膜组成的所述组件, 其中所述基板是能够充当集电器的基板或中间基板。
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