北京科华微电子材料有限公司;北京科华丰园微电子科技有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司张咪获国家专利权
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龙图腾网获悉北京科华微电子材料有限公司;北京科华丰园微电子科技有限公司;上海彤程电子材料有限公司;彤程新材料集团股份有限公司申请的专利一种酚类化合物以及制备方法和应用、光刻胶获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113105330B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-16发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110409013.4，技术领域涉及：C07C69/96；该发明授权一种酚类化合物以及制备方法和应用、光刻胶是由张咪;李冰;刁翠梅;于晓伟;陈昕;王文芳;董栋;张宁设计研发完成，并于2021-04-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种酚类化合物以及制备方法和应用、光刻胶在说明书摘要公布了：本申请提供一种酚类化合物以及制备方法和应用、光刻胶，属于光刻技术领域。本申请的酚类化合物能够对光刻胶的分辨率进行改善，同时使得光刻胶具有较好的光刻性能，具体表现为较好的感光度、更大的对比度、侧壁角较垂直的形貌及更大的工艺窗口。光刻胶包括10～30wt％酚醛树脂、2～10wt％重氮萘醌感光剂、0.1～5wt％流平剂、40～80wt％溶剂和0.1～10wt％酚类化合物。
本发明授权一种酚类化合物以及制备方法和应用、光刻胶在权利要求书中公布了：1.一种酚类化合物作为添加剂在光刻胶中的应用，所述光刻胶为i线重氮萘醌类光刻胶，所述光刻胶包括酚类化合物、酚醛树脂、重氮萘醌感光剂、流平剂和溶剂，所述酚类化合物的添加量为所述光刻胶的0.1~10wt%； 所述酚类化合物的结构式如下： 、或 。
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