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龙图腾网获悉常州维普半导体设备有限公司申请的专利一种掩模版玻璃区表面颗粒检测方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119991589B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510054384.3，技术领域涉及：G06T7/00；该发明授权一种掩模版玻璃区表面颗粒检测方法是由刘鹏成;刘建明;曾献彬设计研发完成，并于2025-01-14向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种掩模版玻璃区表面颗粒检测方法在说明书摘要公布了：本发明公开了一种掩模版玻璃区表面颗粒检测方法，方法的步骤中包括：S01：初始化缺陷结果矩阵C和获取透射光照射掩模版得到的图像T；S02：在图像T中识别铬区，并在缺陷结果矩阵C中对代表铬区的像素点进行对应忽略标识；S03：在除去铬区的图像T中识别边缘区，并在缺陷结果矩阵C中对代表边缘区的像素点进行对应忽略标识；S04：对图像T滤除步骤S2、S3标记的铬区和边缘区，剩下为玻璃区；对玻璃区进行缺陷识别，并在缺陷结果矩阵C中对代表缺陷的像素点进行对应缺陷标识；S05：对缺陷结果矩阵C进行闭运算，然后统计缺陷位置，根据缺陷的长和或宽参数进行缺陷过滤，得到最终缺陷数据。它提高了对玻璃区的缺陷的捕获灵敏度，可以有效避免边缘对缺陷判断的干扰。

本发明授权一种掩模版玻璃区表面颗粒检测方法在权利要求书中公布了：1.一种掩模版玻璃区表面颗粒检测方法，其特征在于，方法的步骤中包括： S01：初始化缺陷结果矩阵C和获取透射光照射掩模版得到的图像T； S02：在图像T中识别铬区，并在缺陷结果矩阵C中对代表铬区的像素点进行对应忽略标识； S03：在除去铬区的图像T中识别边缘区，并在缺陷结果矩阵C中对代表边缘区的像素点进行对应忽略标识； S04：对图像T滤除步骤S2、S3标记的铬区和边缘区，剩下为玻璃区；对玻璃区进行缺陷识别，并在缺陷结果矩阵C中对代表缺陷的像素点进行对应缺陷标识； S05：对缺陷结果矩阵C进行闭运算，然后统计缺陷位置，根据缺陷的长和或宽参数进行缺陷过滤，得到最终缺陷数据; 步骤S02具体为： 设定一灰度阈值Thrd，遍历图像T中的每一像素点[x,y]；其中，当某个像素点[x,y]的灰度值小于灰度阈值Thrd时，则认为该像素点[x,y]是铬区，并设置缺陷结果矩阵C中的该像素点[x,y]处值为代表忽略的忽略标识值; 步骤S03具体为： 设置一边缘距离阈值range，遍历图像T中除去步骤S02中代表铬区的像素点外的每一像素点[x,y]；其中，当某个像素点[x,y]的邻域像素点[x1,y1]的灰度值小于灰度阈值Thrd时，则认为该像素点[x1,y1]是边缘区，并设置缺陷结果矩阵C中的该像素点[x1,y1]处值为代表忽略的忽略标识值；其中，; 对玻璃区进行缺陷识别，并在缺陷结果矩阵C中对代表缺陷的像素点进行对应缺陷标识具体为：设置一个灰度变化阈值GrayThrd，玻璃区的每一像素点和邻近像素点作为像素集，当像素集中各像素点的灰度的最大值和最小值之差小于灰度变化阈值GrayThrd时，则缺陷结果矩阵C中的该像素点处值设置为代表忽略的忽略标识值，反之则缺陷结果矩阵C中的该像素点处值设置为代表缺陷的缺陷标识值; 所述忽略标识值为0; 所述缺陷标识值为255; 初始化缺陷结果矩阵C为全0矩阵。

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