武汉理工大学张鹏超获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉理工大学申请的专利一种聚偏二氟乙烯基复合膜及其制备方法和应用获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119701684B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411902761.6，技术领域涉及：B01D71/32；该发明授权一种聚偏二氟乙烯基复合膜及其制备方法和应用是由张鹏超;陈中奥;陈骁;王永轩设计研发完成，并于2024-12-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种聚偏二氟乙烯基复合膜及其制备方法和应用在说明书摘要公布了：本发明提出了一种聚偏二氟乙烯基复合膜及其制备方法和应用。该聚偏二氟乙烯基复合膜的制备通过将聚偏二氟乙烯基复合分散液在凝固浴溶液表面挤出铺展，固化成膜，干燥，得到聚偏二氟乙烯基复合膜；所述聚偏二氟乙烯基复合分散液为聚偏二氟乙烯和氟化纳米二氧化硅溶解、分散至溶剂中所形成，所述聚偏二氟乙烯的质量百分比浓度为10～13.5wt％；所述凝固浴溶液为溶剂溶于水中所形成，按质量百分百计，所述溶剂与所述水的质量比为50～70∶50～30。本发明通过提升膜内聚合物骨架表面的疏水性，以改善膜内孔洞的抗浸润性，显著提高截盐率，阻滞盐垢对膜内孔洞的污染，从而实现了在海水淡化过程中长时间稳定的工作。
本发明授权一种聚偏二氟乙烯基复合膜及其制备方法和应用在权利要求书中公布了：1.一种聚偏二氟乙烯基复合膜的制备方法，其特征在于，包括：将聚偏二氟乙烯基复合分散液在凝固浴溶液表面挤出铺展，固化成膜，干燥，得到聚偏二氟乙烯基复合膜； 所述聚偏二氟乙烯基复合分散液为聚偏二氟乙烯和氟化纳米二氧化硅溶解、分散至溶剂中所形成，所述聚偏二氟乙烯的质量百分比浓度为10~13.5wt%； 所述凝固浴溶液为溶剂溶于水中所形成，按质量百分百计，所述溶剂与所述水的质量比为50~70：50~30； 所述氟化纳米二氧化硅的占所述聚偏二氟乙烯质量的5~13wt%；所述氟化纳米二氧化硅选自粒径为7~40nm的疏水性氟化纳米二氧化硅。
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