武汉楚兴技术有限公司肖思海获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉楚兴技术有限公司申请的专利一种上腔体盖板及半导体处理设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223363118U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422810377.5，技术领域涉及：H01L21/67；该实用新型一种上腔体盖板及半导体处理设备是由肖思海设计研发完成，并于2024-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种上腔体盖板及半导体处理设备在说明书摘要公布了：本申请提供一种上腔体盖板及半导体处理设备，包括上腔体盖板、设置在所述上腔体盖板内部的壳层反应腔、设置在第一侧表面上的第一管路和微波窗口，壳层反应腔靠近第一侧表面；壳层反应腔用于产生等离子体；第一管路用于使冷却液流动，以便对壳层反应腔降温；微波窗口用于向壳层反应腔传输微波信号；第一管路至少包围微波窗口的三侧，尽量增大了第一管路的面积，从而使得冷却液能够更加充分的对壳层反应腔进行冷却，冷却面积大大增加了，从而能够降低壳层反应腔的温度，使得壳层反应腔的温度不随启辉放电升温且稳定，进而能够稳定刻蚀速率，避免刻蚀速率下降，保障刻蚀结果符合工艺要求，且无需额外引入复杂的控温设备，降低了工艺成本。
本实用新型一种上腔体盖板及半导体处理设备在权利要求书中公布了：1.一种上腔体盖板，其特征在于，包括： 上腔体盖板，以及设置在所述上腔体盖板内部的壳层反应腔；所述上腔体盖板包括第一侧表面和第二侧表面，所述壳层反应腔靠近所述第一侧表面；所述壳层反应腔用于产生等离子体； 设置在所述第一侧表面上的第一管路；所述第一管路用于使冷却液流动，以便对所述壳层反应腔降温； 设置在所述第一侧表面上的微波窗口，用于向所述壳层反应腔传输微波信号；所述第一管路至少包围所述微波窗口的三侧。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉楚兴技术有限公司，其通讯地址为：430040 湖北省武汉市东西湖区径河街网安大道7号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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