华海清科股份有限公司路新春获国家专利权
买专利卖专利找龙图腾，真高效！ 查专利查商标用IPTOP,全免费！专利年费监控用IP管家,真方便！
龙图腾网获悉华海清科股份有限公司申请的专利晶圆抛光方法、抛光设备和存储介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119188589B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411538293.9，技术领域涉及：B24B37/04；该发明授权晶圆抛光方法、抛光设备和存储介质是由路新春;赵德文;邓雯心;靳富设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本晶圆抛光方法、抛光设备和存储介质在说明书摘要公布了：本申请实施例提供了一种晶圆抛光方法、抛光设备和存储介质。晶圆抛光方法包括：获取对晶圆进行抛光的抛光时间的第一取值范围、抛光头的抛光压力的第二取值范围和晶圆的目标去除量；根据第一取值范围和第二取值范围对预设的约束条件进行更新，获得目标约束条件；其中，约束条件用于约束抛光时间和抛光压力的范围；将抛光时间和抛光压力作为优化模型的待优化变量，至少将预测去除量与目标去除量的差异最小作为优化模型的优化目标，根据预设的去除率预测模型构建优化模型；基于目标约束条件和优化模型，确定抛光时间和抛光压力；根据确定出的抛光时间和抛光压力，控制抛光头对晶圆进行抛光。
本发明授权晶圆抛光方法、抛光设备和存储介质在权利要求书中公布了：1.一种晶圆抛光方法，其特征在于，包括： 获取对晶圆进行抛光的抛光时间的第一取值范围、抛光头的抛光压力的第二取值范围和晶圆的目标去除量； 根据所述第一取值范围和所述第二取值范围对预设的约束条件进行更新，获得目标约束条件；其中，所述约束条件用于约束抛光时间和抛光压力的范围； 将抛光时间和抛光压力作为优化模型的待优化变量，至少将预测去除量与目标去除量的差异最小作为优化模型的优化目标，根据预设的去除率预测模型构建优化模型；其中，所述去除率预测模型为输入变量包括抛光压力、输出变量为所述抛光头的去除率的机器学习模型，所述预测去除量等于所述抛光头的去除率和抛光时间的乘积； 基于所述目标约束条件和所述优化模型，确定同时满足所述目标约束条件和所述优化模型的抛光时间和抛光压力； 根据确定出的抛光时间和抛光压力，控制所述抛光头对晶圆进行抛光。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人华海清科股份有限公司，其通讯地址为：300350 天津市津南区咸水沽镇聚兴道11号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
以上内容由龙图腾AI智能生成。
免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
开放平台
担保交易
惠及多方
会员特惠
专属平台
适合多方
数据共享
功能齐全
皖公网安备 34010402703815号
请提出您的宝贵建议，有机会获取IP积分或其他奖励