上海润平电子材料有限公司惠宏业获国家专利权
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龙图腾网获悉上海润平电子材料有限公司申请的专利一种用于化学机械研磨的吸附膜结构及抛光头获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223353958U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422647252.5，技术领域涉及：B24B37/34；该实用新型一种用于化学机械研磨的吸附膜结构及抛光头是由惠宏业;脱博;姚力军;左威;赵梓聿;柏钧天设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种用于化学机械研磨的吸附膜结构及抛光头在说明书摘要公布了：本实用新型提供一种用于化学机械研磨的吸附膜结构及抛光头，所述吸附膜结构包括相对的第一表面和第二表面；所述吸附膜结构的第一表面具有放射状导液槽，所述放射状导液槽沿所述吸附膜结构的半径方向均匀分布，所述放射状导液槽间互不相通。本实用新型提供的吸附膜结构均匀设置放射状导液槽，实现研磨中研磨废液高效排出，并将吸附膜结构进行均匀分区，极大改善晶圆表面压力分布的均匀性，解决压力对晶圆表面的整体性影响，提升研磨均匀性。
本实用新型一种用于化学机械研磨的吸附膜结构及抛光头在权利要求书中公布了：1.一种用于化学机械研磨的吸附膜结构，其特征在于，所述吸附膜结构包括相对的第一表面和第二表面； 所述吸附膜结构的第一表面具有放射状导液槽，所述放射状导液槽沿所述吸附膜结构的半径方向均匀分布，所述放射状导液槽间互不相通。
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