拓荆科技股份有限公司王松获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆科技股份有限公司申请的专利穿腔气路结构及薄膜沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223357748U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422484816.8，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型穿腔气路结构及薄膜沉积设备是由王松设计研发完成，并于2024-10-14向国家知识产权局提交的专利申请。
本穿腔气路结构及薄膜沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种穿腔气路结构及薄膜沉积设备，该穿腔气路结构包括：第一腔体、第二腔体、第一混气块、第二混气块和进气管路，所述第一腔体与所述第二腔体相邻设置，所述第一混气块设于所述第一腔体的顶部，所述第二混气块设于所述第二腔体的顶部；其中，所述进气管路配置为由所述第一腔体和所述第二腔体的下方分气后分别上穿所述第一腔体和所述第二腔体，并分别与所述第一混气块和所述第二混气块连接。通过采用下分气的方式，增大了一分二段管路的流阻，可以有效抑制难加工的大流阻件如混气块、大挡板、喷淋板等对分气的影响，从而显著提高了分气均匀性，提高薄膜的沉积的质量。
本实用新型穿腔气路结构及薄膜沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种穿腔气路结构，其特征在于，包括：第一腔体、第二腔体、第一混气块、第二混气块和进气管路，所述第一腔体与所述第二腔体相邻设置，所述第一混气块设于所述第一腔体的顶部，所述第二混气块设于所述第二腔体的顶部； 其中，所述进气管路配置为由所述第一腔体和所述第二腔体的下方分气后分别上穿所述第一腔体和所述第二腔体，并分别与所述第一混气块和所述第二混气块连接。
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