拓荆科技股份有限公司高级获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆科技股份有限公司申请的专利气体输送装置和半导体器件的工艺设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223357747U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422460231.2，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型气体输送装置和半导体器件的工艺设备是由高级;宋宇;阮大鹏设计研发完成，并于2024-10-11向国家知识产权局提交的专利申请。
本气体输送装置和半导体器件的工艺设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了一种气体输送装置和半导体器件的工艺设备。该装置包括：第一组气路，进气端连接载气源和TEOS源，传输包括载气和TEOS的第一组气体；第二组气路，进气端连接补充气体源，传输包括补充气体的第二组气体；第三组气路，进气端连接臭氧源，传输包括臭氧的第三组气体；以及若干混气部，其进气端分别连接第一组气路、第二组气路，以及第三组气路的出气端，以获取等比例的第一组气体、第二组气体和第三组气体并混合，将混合气体从各混气部的出气端平均分配到反应腔内对应的各处理站进行沉积工艺。本实用新型能够提升多组工艺气体分配的均匀性，从而降低各处理站的膜厚差异，同时还能提升TEOS的冷凝温度，改善薄膜颗粒污染。
本实用新型气体输送装置和半导体器件的工艺设备在权利要求书中公布了：1.一种气体输送装置，其特征在于，包括： 第一组气路，其进气端连接载气源和TEOS源，用于传输包括载气和TEOS的第一组气体； 第二组气路，其进气端连接补充气体源，用于传输包括补充气体的第二组气体； 第三组气路，其进气端连接臭氧源，用于传输包括臭氧的第三组气体；以及 若干个混气部，其进气端分别连接所述第一组气路、所述第二组气路，以及所述第三组气路的出气端，以获取等比例的所述第一组气体、所述第二组气体和所述第三组气体并混合，将混合气体从各所述混气部的出气端平均分配到反应腔内对应的各处理站，进行沉积工艺。
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