拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司顾颜俣获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利喷淋板及薄膜沉积设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223357746U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422448806.9，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型喷淋板及薄膜沉积设备是由顾颜俣;周巨涛;费腾设计研发完成，并于2024-10-10向国家知识产权局提交的专利申请。
本喷淋板及薄膜沉积设备在说明书摘要公布了：本实用新型公开了喷淋板以及薄膜沉积设备。所述喷淋板包括开孔区域。开孔区域包括工艺孔区域和外围开孔区域，所述工艺孔区域为圆形，所述外围开孔区域为圆环形，所述外围开孔区域围绕所述工艺孔区域的最外圈设置；所述外围开孔区域的最外圈所对应的直径与晶圆直径的比值为1.05‑1.10；所述外围开孔区域内的单个开孔的单孔流量小于所述工艺孔区域内的单个开孔的单孔流量。
本实用新型喷淋板及薄膜沉积设备在权利要求书中公布了：1.一种喷淋板，其特征在于，所述喷淋板包括： 开孔区域，包括工艺孔区域和外围开孔区域； 所述工艺孔区域为圆形，所述外围开孔区域为圆环形，所述外围开孔区域围绕所述工艺孔区域的最外圈设置； 所述外围开孔区域的最外圈所对应的直径与晶圆直径的比值为1.05-1.10； 所述外围开孔区域内的单个开孔的单孔流量小于所述工艺孔区域内的单个开孔的单孔流量。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司，其通讯地址为：110171 辽宁省沈阳市浑南区水家900号；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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