北京空间机电研究所陈永获国家专利权
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龙图腾网获悉北京空间机电研究所申请的专利一种基于120K深低温空间红外相机消光阵列组件及遮光罩获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119126457B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411336494.0，技术领域涉及：G03B11/00；该发明授权一种基于120K深低温空间红外相机消光阵列组件及遮光罩是由陈永;张一凡;练敏隆;王戬;杨小乐;宫辉;杨亭;段鹏飞;白杰;丁琳;杨富饶;王斌;裴景洋设计研发完成，并于2024-09-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种基于120K深低温空间红外相机消光阵列组件及遮光罩在说明书摘要公布了：本发明涉及一种基于120K深低温空间红外相机消光阵列组件及遮光罩，消光阵列组件包括消光阵列板和导热层，所述消光阵列板包括消光片和基板，导热层包括铟箔和硅脂。遮光罩包括消光阵列组件、遮光罩本体、冷指接口、冷指卡箍、球铰组件，通过两处冷指接口将深低温空间红外相机遮光罩与镜头冷指进行接触；实现保证遮光罩120K的工作温度，通过4处消光阵列组件与遮光罩的内表面连接固定；通过铟箔进行初步吸收消光阵列中的红外辐射；通过导热硅脂进一步吸收，实现吸热的功能，并与遮光罩本体共同实现提供4个方向上红外辐射的吸收，通过球铰结构与固定点进行精准隔热。
本发明授权一种基于120K深低温空间红外相机消光阵列组件及遮光罩在权利要求书中公布了：1.一种基于120K深低温空间红外相机消光阵列组件，其特征在于：包括消光阵列板和导热层，所述消光阵列板包括消光片和基板，导热层包括铟箔和硅脂； 若干消光片等间距平行排列在基板上表面上，基板下表面涂覆一层硅脂，硅脂下表面贴覆铟箔； 所述消光阵列组件成型后整体采用化学镀金工艺处理，太阳吸收比为0.3±0.05，红外发射率≤0.1。
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