广州华星光电半导体显示技术有限公司刘方梅获国家专利权
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龙图腾网获悉广州华星光电半导体显示技术有限公司申请的专利显示面板和显示装置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119133188B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411252205.9,技术领域涉及:H10D86/60;该发明授权显示面板和显示装置是由刘方梅设计研发完成,并于2024-09-06向国家知识产权局提交的专利申请。
本显示面板和显示装置在说明书摘要公布了:本申请提供一种显示面板和显示装置;该显示面板通过使第一金属层包括漏极,掺杂部穿过第一过孔与漏极连接,使得显示面板可以采用同一金属层形成电极和遮光图案,减少掩膜板的数量,且通过使缓冲层包括异形部,沟道部设置在异形部的一平面和异形部的侧壁上,栅极与沟道部的侧壁和沟道部的顶面对应设置,则可以增加沟道长度,且可以增大栅极与沟道相对设置的部分的长度,增加栅极控制面积,从而相应的可以减小栅极宽度,减小单个薄膜晶体管的尺寸,提高像素密度。
本发明授权显示面板和显示装置在权利要求书中公布了:1.一种显示面板,其特征在于,包括: 衬底; 第一金属层,设置于所述衬底一侧,所述第一金属层包括漏极; 缓冲层,设置于所述第一金属层远离所述衬底的一侧,所述缓冲层包括第一过孔; 有源层,设置于所述缓冲层远离所述第一金属层的一侧,所述有源层包括沟道部和设置于所述沟道部两侧的掺杂部,一所述掺杂部穿过所述第一过孔与所述漏极连接; 第二金属层,设置于所述有源层远离所述缓冲层的一侧,所述第二金属层包括栅极; 其中,所述缓冲层还包括异形部,所述沟道部设置于所述异形部的一平面和所述异形部的侧壁上,所述栅极与所述沟道部的侧壁和所述沟道部的顶面对应设置;所述显示面板还包括栅极绝缘层,所述栅极绝缘层设置于所述有源层和所述栅极之间,所述沟道部包括搭接于所述异形部侧壁上的第一沟道部和搭接于所述异形部一平面上的第二沟道部,所述栅极绝缘层包括搭接于所述第一沟道部上的第一绝缘部和搭接于所述第二沟道部上的第二绝缘部,所述栅极搭接在所述第一绝缘部上并与所述第二绝缘部接触,且所述栅极与所述第一沟道部和所述第二沟道部对应设置;所述第一金属层还包括遮光图案,所述遮光图案与所述沟道部对应设置,所述遮光图案的顶面与所述第二沟道部的底面存在间距。
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