拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司闻皓岩获国家专利权
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龙图腾网获悉拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司申请的专利一种工艺腔室获国家实用新型专利权,本实用新型专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN223363109U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的实用新型授权公告中获悉:该实用新型的专利申请号/专利号为:202422054502.4,技术领域涉及:H01L21/67;该实用新型一种工艺腔室是由闻皓岩;张恩慈;潘丽君;刘振设计研发完成,并于2024-08-22向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种工艺腔室在说明书摘要公布了:本实用新型提供了工艺腔室。所述工艺腔室包括晶圆托盘、运动部件及线束。所述晶圆托盘的边缘卡接多组选配支撑块中的一组。所述多组选配支撑块具有不同的高度。所述运动部件上设有可调节高度的限位结构。所述限位结构具有多个高度调节档位。各所述高度调节档位分别对应于一组所述选配支撑块的高度。所述线束的一端连接所述晶圆托盘,而其另一端连接所述运动部件,用于输出指示所述选配支撑块高度的第一信号,以及指示所述限位结构的高度调节档位的第二信号。本实用新型可以输出指示选配支撑块的高度的第一信号,以及指示限位结构的高度调节档位的第二信号,以帮助判断腔室顶部或喷淋头与待加工晶圆是否会发生碰撞,从而保证工艺腔室的设备安全。
本实用新型一种工艺腔室在权利要求书中公布了:1.一种工艺腔室,其特征在于,包括: 晶圆托盘,其边缘卡接多组选配支撑块中的一组,其中,所述多组选配支撑块具有不同的高度; 运动部件,其上设有可调节高度的限位结构,其中,所述限位结构具有多个高度调节档位,各所述高度调节档位分别对应于一组所述选配支撑块的高度;以及 线束,其一端连接所述晶圆托盘的选配支撑块,以输出指示所述选配支撑块高度的第一信号,而其另一端连接所述运动部件的限位结构,以输出指示所述限位结构的高度调节档位的第二信号。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人拓荆创益(沈阳)半导体设备有限公司,其通讯地址为:110171 辽宁省沈阳市浑南区水家900号;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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