京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司黄世雄获国家专利权
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龙图腾网获悉京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司申请的专利掩膜板及其设计方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118957490B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411146787.2，技术领域涉及：C23C14/04；该发明授权掩膜板及其设计方法是由黄世雄;黄倍慈;徐元杰;徐光华设计研发完成，并于2024-08-20向国家知识产权局提交的专利申请。
本掩膜板及其设计方法在说明书摘要公布了：本申请提供了一种掩膜板及其设计方法，该掩膜板用于对显示基板进行蒸镀，包括：多个呈阵列排布的蒸镀开口，蒸镀开口包括基准区域和补偿区域，蒸镀开口对应于显示基板的像素开口，像素开口包括多个弧形开口区域以及相邻的两个弧形开口区域之间的直线形开口区域，基准区域与弧形开口区域对应，补偿区域与直线形开口区域对应，蒸镀开口用于供蒸镀材料通过；蒸镀开口沿第一方向延伸，且贯穿掩膜板，蒸镀开口的开口形状为与像素开口相切的多边形，第一方向为掩膜板的厚度方向；缓冲区，缓冲区用于对蒸镀材料进行阻挡。本申请的技术方案，有效改善显示基板的蒸镀阴影问题，从而改善显示基板的混色问题。
本发明授权掩膜板及其设计方法在权利要求书中公布了：1.一种掩膜板，其特征在于，用于对显示基板进行蒸镀，包括： 多个呈阵列排布的蒸镀开口，所述蒸镀开口包括基准区域和补偿区域，所述蒸镀开口对应于所述显示基板的像素开口，所述像素开口包括多个弧形开口区域以及相邻的两个所述弧形开口区域之间的直线形开口区域，所述基准区域与所述弧形开口区域对应，所述补偿区域与所述直线形开口区域对应，所述蒸镀开口用于供蒸镀材料通过； 所述蒸镀开口沿第一方向延伸，且贯穿所述掩膜板，所述蒸镀开口的开口形状为与所述弧形开口区域的弧形线段的顶点相切的外切线和所述直线形开口区域的直线边连接形成的多边形，所述第一方向为所述掩膜板的厚度方向； 缓冲区，所述缓冲区用于对所述蒸镀材料进行阻挡。
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