西北工业大学冯丽萍获国家专利权
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龙图腾网获悉西北工业大学申请的专利一种高迁移率p型二维WS2的制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN119108263B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202411134323.X,技术领域涉及:H01L21/02;该发明授权一种高迁移率p型二维WS2的制备方法是由冯丽萍;于潇;王锡桐;姚雨涵设计研发完成,并于2024-08-19向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种高迁移率p型二维WS2的制备方法在说明书摘要公布了:本发明涉及一种高迁移率p型二维WS2的制备方法,以及高迁移率p型二维WS2和应用,通过使用WO3和S作为制备WS2的反应前驱体,以氨水作为溶剂进行液相辅助,抑制WS2的二次形核和纵向生长,促进WS2横向生长的进行,从而更有利于大尺寸、单层二维WS2的制备。使用空间限域,从而为二维WS2的生长过程提供了充足的前驱体源。由于反应在一个富S的条件下进行,因此二维WS2中会存在一定的W空位,从而引入受主能级,使二维WS2呈现p型导电特性。以本发明所制得的二维WS2制备的p型场效应晶体管具有高的空穴迁移率和大的开关比。
本发明授权一种高迁移率p型二维WS2的制备方法在权利要求书中公布了:1.一种高迁移率p型二维WS2的制备方法,其特征在于步骤如下: 步骤1:以氨水作为溶剂与WO3配制WO3的前驱体溶液; 步骤2:将前驱体溶液,滴0.3~0.5ml在SiO2Si衬底的SiO2表面; 步骤3:将衬底烘干,烘干加热温度为80~100℃;然后,将衬底放置于套管内;然后在衬底上覆盖另一片SiO2Si衬底,一并推入石英管内; 步骤4:在载气通入的方向、套管的一侧放入石英舟;所述石英舟内有S粉; 步骤5:将石英管放到单温区管式炉内,拧紧石英管两端的法兰,并将石英管抽真空至压强为6~10Pa;然后通入180~220sccm流量的高纯Ar气5-10min,使石英管内为常压状态; 步骤6:在常压状态下,调整Ar气流量到80~120sccm,设置单温区管式炉温控程序,先加热套管到500~600℃,保温10~25min,在保温结束时将Ar气流量调至30~60sccm; 步骤7:再加热套管到700~850℃时,此时打开硫粉的加热带,并将加热带的温度设置为130~180℃;再加热套管到900~1000℃,同时使硫粉也达到预设的加热温度; 步骤8:将Ar气调至20~30sccm,通入高纯H2气10~20sccm,同时关闭套管右侧的阀门,保持该沉积条件8~15min;关闭加热装置,随炉冷却至室温,在SiO2Si衬底的SiO2表面得到高迁移率p型二维WS2。
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