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龙图腾网获悉上海集成电路制造创新中心有限公司申请的专利一种光强的计算方法、装置、设备及介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN118818917B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411063287.2，技术领域涉及：G03F7/20；该发明授权一种光强的计算方法、装置、设备及介质是由张至美设计研发完成，并于2024-08-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种光强的计算方法、装置、设备及介质在说明书摘要公布了：本发明提供了一种光强的计算方法、装置、设备及介质，利用阿贝成像原理结合光学薄膜叠层的折射和反射效应对光的偏振进行计算，得到光源单点对像平面电场强度的关系式；基于所述关系式利用光源的偏振对电场强度在光源范围内进行积分，并利用霍普金斯成像公式对多重积分次序进行调整，得到传输交叉系数矢量表达式；对所述传输交叉系数矢量表达式进行展开，得到N个标量传输交叉系数；利用所述N个标量传输交叉系数对实际光源的光强进行仿真计算，其中，N为正整数。通过基于物理原理的推导，没有任何额外近似，同时又保留了传输交叉系数的形式，因而兼具准确与快速的优点，可满足光学临近效应修正的密集计算需求。

本发明授权一种光强的计算方法、装置、设备及介质在权利要求书中公布了：1.一种光强的计算方法，其特征在于，包括： 利用阿贝成像原理结合光学薄膜叠层的折射和反射效应对光的偏振进行计算，得到光源单点对像平面电场强度的关系式，包括：计算光强一个周期内与电场强度平方的平均值的关系式，并计算光强的表达式；计算电场强度的时空表达式，并得到复数形式的表达式；计算在复振幅形式下，光强的表达式；基于标量形式的阿贝成像公式和复振幅分布，得到标量形式下的像平面上的光强分布；结合光学薄膜叠层的折射和反射效应对光的偏振进行计算，得到矢量形式的阿贝成像公式；根据菲涅耳公式分别计算透射率和反射率，得到矢量的薄膜函数；基于矢量形式的阿贝成像公式和矢量的薄膜函数，得到矢量形式下的像平面上的光强分布； 基于所述关系式利用光源的偏振对电场强度在光源范围内进行积分，并利用霍普金斯成像公式对多重积分次序进行调整，得到传输交叉系数矢量表达式； 对所述传输交叉系数矢量表达式进行展开，得到N个标量传输交叉系数； 利用所述N个标量传输交叉系数对实际光源的光强进行仿真计算，其中，N为正整数。

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