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芜湖映日科技股份有限公司石煜获国家专利权

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龙图腾网获悉芜湖映日科技股份有限公司申请的专利一种平面铜靶材的制备方法及应用其的磁控溅射方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN117305789B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202311285912.3,技术领域涉及:C23C14/35;该发明授权一种平面铜靶材的制备方法及应用其的磁控溅射方法是由石煜;曾墩风;张信征;刘明;费唐兴设计研发完成,并于2023-10-07向国家知识产权局提交的专利申请。

一种平面铜靶材的制备方法及应用其的磁控溅射方法在说明书摘要公布了:本发明属于溅射靶材技术领域,具体涉及一种平面铜靶材的制备方法及应用其的磁控溅射方法,步骤S1:制备高纯无氧铜杆;步骤S2:连续挤压所述无氧铜杆以形成坯料,并在挤压过程中对所述坯料进行防氧化保护;步骤S3:待所述坯料冷却至室温后进行单道次低变形量拉拔操作,控制拉拔变形量为1.5%‑3%,控制拉拔变形温度在300℃‑500℃;步骤S4:重复上述步骤S2和步骤S3至少两次;步骤S5:对坯料进行矫直操作;步骤S6:对坯料进行机加工操作,制成铜靶材;通过所述制备方法得到的平面铜靶材晶粒尺寸小于40μm,晶粒细小且均匀,且生产工艺简便,可实现低成本、高可靠性的工业化连续生产。

本发明授权一种平面铜靶材的制备方法及应用其的磁控溅射方法在权利要求书中公布了:1.一种平面铜靶材的制备方法,其特征在于,包括: 步骤S1:制备高纯无氧铜杆; 步骤S2:连续挤压所述无氧铜杆以形成坯料,并在挤压过程中对所述坯料进行防氧化保护; 步骤S3:待所述坯料冷却至室温后进行单道次低变形量拉拔操作,控制拉拔变形量为1.5%-3%,控制拉拔变形温度在300℃-500℃; 步骤S4:重复上述步骤S2和步骤S3至少两次; 步骤S5:对坯料进行矫直操作; 步骤S6:对坯料进行机加工操作,制成铜靶材; 在步骤S2中,使用连续挤压机进行连续挤压操作,使用防氧化冷却循环装置使所述坯料冷却至室温; 所述连续挤压机内设有挤压轮、和挤压模具,所述挤压轮转速为2-3rmin; 所述挤压模具包括上模具41和下模具42,所述上模具41和下模具42可拆卸连接,形成模具入口43和模具出口,所述上模具41与下模具42之间设有相互契合为半圆形的上支凸起结构44和下支凸起结构45,所述上支凸起结构44和下支凸起结构45之间存有矩形间隙;所述挤压模具出口处设有不等宽斜面。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人芜湖映日科技股份有限公司,其通讯地址为:241000 安徽省芜湖市(安徽)自由贸易试验区芜湖片区衡山路南侧、凤鸣湖北路西侧1#厂房;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

以上内容由龙图腾AI智能生成。

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