上海恩捷新材料科技有限公司庄志获国家专利权
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龙图腾网获悉上海恩捷新材料科技有限公司申请的专利一种阵列基膜、电池集流体、电池极片、电池及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN115440990B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202211245525.2,技术领域涉及:H01M4/66;该发明授权一种阵列基膜、电池集流体、电池极片、电池及其制备方法是由庄志;郭桂略;蔡裕宏;刘洋;虞少波;程跃设计研发完成,并于2022-10-12向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种阵列基膜、电池集流体、电池极片、电池及其制备方法在说明书摘要公布了:本申请提供一种阵列基膜、电池集流体、电池极片、电池及其制备方法,属于柔性电子元器件领域。阵列基膜包括呈阵列分布的多个第一区域以及与第一区域交替分布的第二区域,第一区域包括有机聚合物层,第二区域包括有机聚合物层以及位于有机聚合物层表面和内部的导电金属,通过该阵列基膜,能够在一定程度上解决柔性导电薄膜与极耳焊接困难以及焊接不良等问题,从而有效降低极耳与极片间的电阻。
本发明授权一种阵列基膜、电池集流体、电池极片、电池及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种电池集流体,其特征在于,包括: 非金属导电层;以及 阵列基膜,所述阵列基膜包括呈阵列分布的多个第一区域以及与所述第一区域交替分布的第二区域,所述第一区域包括有机聚合物层,所述第二区域包括有机聚合物层以及位于所述有机聚合物层表面和内部的导电金属; 在所述阵列基膜的厚度方向上,所述非金属导电层位于所述第一区域的一侧或两侧,漏出的所述第二区域为所述电池集流体的焊接区。
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