武汉华星光电技术有限公司尹文获国家专利权
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龙图腾网获悉武汉华星光电技术有限公司申请的专利阵列基板及其制备方法、显示面板获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119815921B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411827620.2，技术领域涉及：H10D86/60；该发明授权阵列基板及其制备方法、显示面板是由尹文设计研发完成，并于2022-02-28向国家知识产权局提交的专利申请。
本阵列基板及其制备方法、显示面板在说明书摘要公布了：本发明涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。本发明的显示面板的所述第一层间绝缘层在所述第一基板上的投影与所述开口区在所述第一基板上的投影相切或相离，使得开口区的所述第二层间绝缘层靠近所述第一基板的一侧的表面贴合于所述栅极绝缘层远离所述第一基板的一侧的表面，使用相同材质制备栅极绝缘层和所述第二层间绝缘层，由此可以降低光线在开口区的所述第二层间绝缘层和所述栅极绝缘层的接触面的反射率，进而降低显示面板的反射率，减弱显示面板对环境光线的反光，提升显示面板的对比度，提升显示面板的显示效果。
本发明授权阵列基板及其制备方法、显示面板在权利要求书中公布了：1.一种阵列基板，其特征在于，包括开口区和非开口区；其中，所述阵列基板包括： 第一基板； 栅极绝缘层，设置于所述第一基板上，且位于所述开口区和所述非开口区； 第一层间绝缘层，设置于所述栅极绝缘层远离所述第一基板的一侧，且位于所述非开口区；以及 第二层间绝缘层，设置于所述第一层间绝缘层远离所述第一基板的一侧，且位于所述开口区和所述非开口区； 其中，光线在所述开口区内的所述第二层间绝缘层和所述栅极绝缘层的接触面的反射率，小于所述光线在所述非开口区内的所述第二层间绝缘层和所述第一层间绝缘层的接触面的反射率。
如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术，可联系本专利的申请人或专利权人武汉华星光电技术有限公司，其通讯地址为：430079 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋；或者联系龙图腾网官方客服，联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。
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