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当前位置 : 首页 > 专利喜报 > 意法半导体有限公司;意法半导体(克洛尔2)公司O·韦伯获国家专利权

意法半导体有限公司;意法半导体(克洛尔2)公司O·韦伯获国家专利权

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龙图腾网获悉意法半导体有限公司;意法半导体(克洛尔2)公司申请的专利集成标准单元的设置获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN114649325B

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202111546019.2,技术领域涉及:H10D89/10;该发明授权集成标准单元的设置是由O·韦伯;C·勒科克设计研发完成,并于2021-12-16向国家知识产权局提交的专利申请。

集成标准单元的设置在说明书摘要公布了:本公开涉及集成标准单元的设置。集成电路包括至少一个第一标准单元,该至少一个第一标准单元由两个第二标准单元框定。该三个单元被彼此相邻设置,并且每个标准单元包括位于绝缘体上硅silicon‑on‑insulator,SOI衬底中和上的至少一个NMOS晶体管和至少一个PMOS晶体管。第一标准单元的至少一个PMOS晶体管具有包括硅和锗的沟道。每个第二标准单元的至少一个PMOS晶体管具有硅沟道,每个第二标准单元的至少一个PMOS晶体管的阈值电压与所述第一单元的至少一个PMOS晶体管的阈值电压在绝对值上不同。

本发明授权集成标准单元的设置在权利要求书中公布了:1.一种集成电路,包括: 绝缘体上硅衬底; 至少一个第一标准单元,由两个第二标准单元框定,所述第一标准单元和所述两个第二标准单元被彼此相邻设置,每个单元包括: 位于所述绝缘体上硅衬底中和上的至少一个NMOS晶体管和至少一个PMOS晶体管,所述第一标准单元的至少一个PMOS晶体管具有包括硅和锗的沟道,每个第二标准单元的至少一个NMOS晶体管具有硅沟道,所述每个第二标准单元的至少一个NMOS晶体管的阈值电压与所述第一标准单元的至少一个PMOS晶体管的阈值电压在绝对值上不同。

如需购买、转让、实施、许可或投资类似专利技术,可联系本专利的申请人或专利权人意法半导体有限公司;意法半导体(克洛尔2)公司,其通讯地址为:法国蒙鲁;或者联系龙图腾网官方客服,联系龙图腾网可拨打电话0551-65771310或微信搜索“龙图腾网”。

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