东京毅力科创株式会社新藤健弘获国家专利权
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龙图腾网获悉东京毅力科创株式会社申请的专利控制方法和基片输送系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114203605B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202111042397.7，技术领域涉及：H01L21/677；该发明授权控制方法和基片输送系统是由新藤健弘设计研发完成，并于2021-09-07向国家知识产权局提交的专利申请。
本控制方法和基片输送系统在说明书摘要公布了：本发明提供能够提高输送精度的基片输送系统的控制方法和基片输送系统。本发明的控制方法是具有保持基片的保持部且能够输送上述基片的输送机构的控制方法，其包括：检测由上述输送机构输送的上述基片的外缘，使用预先设定的与输送上述基片的路径对应的调整值来测量上述基片的中心位置的步骤；基于上述基片的中心位置与预先设定的上述保持部的基准位置的偏移量，来修正目标位置的步骤；和控制上述输送机构，以使上述保持部的基准位置成为修正后的上述目标位置的步骤。
本发明授权控制方法和基片输送系统在权利要求书中公布了：1.一种控制方法，其特征在于： 所述控制方法是具有保持基片的保持部且能够输送所述基片的输送机构的控制方法， 所述保持部具有比所保持的所述基片突出的突出部， 所述控制方法包括： 在利用所述输送机构输送所述基片时，在位于输送至目标位置的路径上的测量位置处用测量部检测所述突出部的外缘，来测量所述保持部的基准位置，并且在所述测量位置处用测量部检测所述基片的外缘，使用预先设定的与输送所述基片的路径对应的调整值来测量所述基片的中心位置的步骤； 基于所述基片的中心位置与预先设定的所述保持部的基准位置的偏移量，来修正所述目标位置的步骤；和 控制所述输送机构，以使所述保持部的基准位置成为修正后的所述目标位置的步骤。
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1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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