株式会社东进世美肯金荣光获国家专利权
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龙图腾网获悉株式会社东进世美肯申请的专利不包含挥发酸的蚀刻液组合物获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN113881938B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110745093.0，技术领域涉及：C23F1/30；该发明授权不包含挥发酸的蚀刻液组合物是由金荣光;姜东浒;金圣雄;车敬雄;裴正贤;申贤哲设计研发完成，并于2021-07-01向国家知识产权局提交的专利申请。
本不包含挥发酸的蚀刻液组合物在说明书摘要公布了：本发明涉及一种可以在形成阵列基板的金属布线时使用的不包含乙酸的蚀刻液组合物。本发明可以提供一种包含磷酸40至65重量％、硝酸2至10重量％、非挥发性有机酸1至10重量％、铵盐化合物以及氨基酸，所述铵盐化合物的含量以及所述氨基酸的含量的之为2至10重量％的蚀刻液组合物。本发明的蚀刻液组合物可以在对银Ag单一膜或包含银Ag的多重膜进行蚀刻时对所述多重膜的残渣进行控制并增加蚀刻液的使用时间，还可以降低蚀刻液的挥发性，从而在大面积阵列基板上形成均匀的布线。
本发明授权不包含挥发酸的蚀刻液组合物在权利要求书中公布了：1.一种蚀刻液组合物，其特征在于，包含： 磷酸40至65重量％； 硝酸2至10重量％； 非挥发性有机酸1至10重量％； 铵盐化合物；以及， 氨基酸； 所述铵盐化合物的含量以及所述氨基酸的含量之和为2至10重量％， 所述氨基酸的含量为1至9重量％， 所述氨基酸从由丙氨酸、甘氨酸、天冬酰胺、天冬氨酸、焦谷氨酸、马尿酸、谷氨酸以及它们的混合物构成的组中选择。
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2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。
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