苏州旭创科技有限公司郑学哲获国家专利权
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龙图腾网获悉苏州旭创科技有限公司申请的专利光耦合结构及其制备方法、光学组件获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN115524785B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202110714031.3，技术领域涉及：G02B6/12；该发明授权光耦合结构及其制备方法、光学组件是由郑学哲;杜寅超设计研发完成，并于2021-06-25向国家知识产权局提交的专利申请。
本光耦合结构及其制备方法、光学组件在说明书摘要公布了：本公开涉及一种光耦合结构及其制备方法、光学组件。所述光耦合结构包括层叠设置的光导向层和光准直层。光导向层包括：第一基层、以及设置于第一基层的背离光准直层的表面上的导向凸块。导向凸块具有光耦合面和全反射面；其中，光耦合面垂直于第一基层的背离光准直层的表面，全反射面与光耦合面相对、且与第一基层呈角度设置。所述光耦合结构能够解决边缘出光型光学器件与平面型光学器件之间耦合封装难的问题，从而有利于在大规模的光电混合集成中实现边缘出光型光学器件与平面型光学器件之间的高效耦合。
本发明授权光耦合结构及其制备方法、光学组件在权利要求书中公布了：1.一种光耦合结构，其特征在于，包括：层叠设置的光导向层和光准直层； 所述光导向层包括：第一基层、以及设置于所述第一基层的背离所述光准直层的表面上的导向凸块；所述导向凸块具有光耦合面和全反射面； 其中，所述光耦合面垂直于所述第一基层的背离所述光准直层的表面； 所述全反射面与所述光耦合面相对，且与所述第一基层呈角度设置； 所述全反射面被配置为：将所述光耦合面耦入的光信号全反射至所述光准直层，以通过所述光准直层准直或汇聚所述光信号；或，将所述光准直层准直或汇聚的光信号全反射至所述光耦合面，以通过所述光耦合面耦出； 其中，所述光准直层包括： 第二基层；所述第二基层位于所述第一基层的背离所述导向凸块的表面； 和，微透镜或其阵列；所述微透镜或其阵列设置于所述第二基层上。
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