日立高科技分析科学有限公司安德烈·佩特斯获国家专利权
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龙图腾网获悉日立高科技分析科学有限公司申请的专利易于调节的光学发射光谱仪获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN114585906B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202080073654.0，技术领域涉及：G01N21/01；该发明授权易于调节的光学发射光谱仪是由安德烈·佩特斯;莱纳·西蒙斯设计研发完成，并于2020-11-04向国家知识产权局提交的专利申请。
本易于调节的光学发射光谱仪在说明书摘要公布了：本发明涉及一种易于调节的光学发射光谱仪1，以及一种用于建立和操作这种光谱仪1的方法100，该光谱仪1包括用于从样品材料建立发光等离子体的等离子体支架2，以及用于测量由等离子体发射的光L的光谱的光学系统3，光谱是样品材料的特征，其中所述光学系统3包括至少一个光入射孔径31、用于分离来自所述等离子体A的光L的至少一个衍射光栅32和用于测量所述光L的光谱的一个或多个检测器33，其中所述等离子体支架2和所述光学系统3分别直接和固定地安装在彼此直接和固定连接的等离子体支架凸缘2B和光学系统凸缘3B上，并且其中，光学发射光谱仪1还包括分析单元34，所述分析单元34适于分析所测量的光谱，并且考虑到所述光学系统3的热膨胀，补偿可能由从所述等离子体支架2传递到所述光学系统3的热量所引起的光谱相对于检测器33的漂移。
本发明授权易于调节的光学发射光谱仪在权利要求书中公布了：1.一种光学发射光谱仪1，其特征在于，包括用于从样品材料建立发光等离子体的等离子体支架2、和用于测量由所述等离子体发射的光L的光谱的光学系统3，所述光L的所述光谱是所述样品材料的特征，其中所述光学系统3包括至少一个光入射孔径31、用于将来自所述等离子体的所述光L衍射成光谱的至少一个衍射光栅、以及用于测量所述光L的所述光谱的一个或多个检测器33，其中所述等离子体支架2和所述光学系统3分别被直接和固定地安装在彼此被直接和固定连接的等离子体支架凸缘2B和光学系统凸缘3B上，并且其中光学发射光谱仪1还包括分析单元34，所述分析单元34适于分析所测量的光谱，并且考虑到所述光学系统3的热膨胀，补偿由从所述等离子体支架2传递到所述光学系统3的热量所引起的所述光谱相对于所述检测器33的漂移。
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