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龙图腾网获悉洋华光电股份有限公司申请的专利在透明电极上形成辅助导电单元的制造方法及其制成品获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN112684948B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-19发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：201910993667.9，技术领域涉及：G06F3/044；该发明授权在透明电极上形成辅助导电单元的制造方法及其制成品是由白志强;林孟癸;黄鸿棋设计研发完成，并于2019-10-18向国家知识产权局提交的专利申请。

本在透明电极上形成辅助导电单元的制造方法及其制成品在说明书摘要公布了：一种在触控传感器的透明电极上形成辅助导电单元的制造方法及其制成品，其中该制造方法包含：在一介电基板的第一侧面设置一第一触控导电迹线图案及一第一辅助导电迹线图案；在介电基板的第二侧面设置一第二触控导电迹线图案及一第二辅助导电迹线图案，该第一、第二辅助导电迹线图案均具有微型辅助导电单元并分别电性搭接在第一、第二触控导电迹线图案所界定的区域范围内，且该第一、第二辅助导电迹线图案的微型辅助导电单元的遮光率均在1%以下；其中，第一、第二触控导电迹线图案和第一、第二辅助导电迹线图案共同形成至少一触控传感器，第一、第二触控导电迹线图案的面电阻值在80‑150ohmsq之间，第一、第二辅助导电迹线图案的面电阻值在0.05‑0.2ohmsq之间。

本发明授权在透明电极上形成辅助导电单元的制造方法及其制成品在权利要求书中公布了：1.一种在触控传感器的透明电极上形成辅助导电单元的制造方法，其特征在于，包含下列步骤： 制备导电基板：在一介电基板的第一侧面上依序叠合设置一第一触控导电层与一第一辅助导电层，在所述基板的第二侧面上依序叠合设置一第二触控导电层与一第二辅助导电层，所述第一侧面隔着所述基板与所述第二侧面相对，其中，所述第一触控导电层和所述第二触控导电层是由相同材料形成的透明的导电薄膜，所述第一辅助导电层和所述第二辅助导电层是由相同材料形成的不透光的导电薄膜，所述第一辅助导电层的面电阻率低于所述第一触控导电层的面电阻率，所述第一辅助导电层电性叠接在所述第一触控导电层之上，所述第二辅助导电层的面电阻率低于所述第二触控导电层的面电阻率，所述第二辅助导电层电性叠接在所述第二触控导电层之上； 第一黄光制程：在所述基板的所述第一侧面上设置一第一光阻层，并在所述第一光阻层上显影形成一第一光阻迹线图案，所述第一光阻迹线图案中至少包含有一第一触控感应电极的图案部分及一第一信号导线的图案部分，其中，所述第一触控感应电极是沿第一方向呈串行状设置，所述第一信号导线是电性连接所述第一触控感应电极； 第二黄光制程：在所述基板的所述第二侧面上设置一第二光阻层，并在所述第二光阻层上显影形成一第二光阻迹线图案，所述第二光阻迹线图案中至少包含有一第二触控感应电极的图案部分及一第二信号导线的图案部分，其中，所述第二触控感应电极是沿第二方向呈串行状设置，所述第二信号导线是电性连接所述第二触控感应电极； 第一蚀刻制程：使用一第一蚀刻剂对所述第一触控导电层、所述第一辅助导电层、所述第二触控导电层和所述第二辅助导电层进行蚀刻，以去除掉没有被所述第一光阻层和所述第二光阻层保护的材料部分； 第一剥膜制程：移除所述第一光阻层和所述第二光阻层，在所述基板的所述第一侧面上的所述第一触控导电层及所述第一辅助导电层之上皆被蚀刻形成一与所述第一光阻迹线图案相应的第一触控导电迹线图案，在所述基板的所述第二侧面上的所述第二触控导电层及所述第二辅助导电层之上皆被蚀刻形成一与所述第二光阻迹线图案相应的第二触控导电迹线图案； 第三黄光制程：在所述基板的所述第一侧面上设置一第三光阻层，并在所述第三光阻层上显影形成一第三光阻迹线图案，所述第三光阻迹线图案中包含至少一第一微型辅助导电单元的图案部分及一第一辅助信号导线的图案部分，其中，所述第一微型辅助导电单元是设置在所述第一触控感应电极的区域范围内，所述第一辅助信号导线的至少一部分重叠的形成在所述第一信号导线的区域范围内； 第四黄光制程：在所述基板的所述第二侧面上设置一第四光阻层，并在所述第四光阻层上显影形成一第四光阻迹线图案，所述第四光阻迹线图案中包含至少一第二微型辅助导电单元的图案部分及一第二辅助信号导线的图案部分，其中，所述第二微型辅助导电单元是设置在所述第二触控感应电极的区域范围内，所述第二辅助信号导线的至少一部分重叠的形成在所述第二信号导线的区域范围内； 第二蚀刻制程：使用一第二蚀刻剂对所述第一辅助导电层和所述第二辅助导电层进行蚀刻，以去除掉没有被所述第三光阻层和所述第四光阻层保护的材料部分，所述第二蚀刻剂不会与所述第一触控导电层和所述第二触控导电层的材料产生蚀刻反应；以及 第二剥膜制程：移除所述第三光阻层和所述第四光阻层，在所述基板的所述第一侧面上的所述第一辅助导电层上被蚀刻形成一与所述第三光阻迹线图案相应的第一辅助导电迹线图案，而所述第一触控导电层上仍然保持所述第一触控导电迹线图案，在所述基板的所述第二侧面上的所述第二辅助导电层上被蚀刻形成一与所述第四光阻迹线图案相应的第二辅助导电迹线图案，而所述第二触控导电层上仍然保持所述第二触控导电迹线图案；其中，所述第一触控导电迹线图案、所述第一辅助导电迹线图案、所述第二触控导电迹线图案和所述第二辅助导电迹线图案共同形成一触控传感器；所述第一辅助导电迹线图案用以降低所述第一触控导电迹线图案的面电阻率，所述第二辅助导电迹线图案用以降低所述第二触控导电迹线图案的面电阻率。

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