深圳市中达瑞和科技有限公司张崇磊获国家专利权
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龙图腾网获悉深圳市中达瑞和科技有限公司申请的专利红外线性渐变滤光片及其制备方法获国家发明授权专利权,本发明授权专利权由国家知识产权局授予,授权公告号为:CN120519858B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉:该发明授权的专利申请号/专利号为:202511013871.1,技术领域涉及:C23C28/00;该发明授权红外线性渐变滤光片及其制备方法是由张崇磊;郑帆;刘湘宇;吕鹏;李峰;梁洪易设计研发完成,并于2025-07-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本红外线性渐变滤光片及其制备方法在说明书摘要公布了:本发明涉及滤光片技术领域,提供了一种红外线性渐变滤光片及其制备方法,制备方法包括以下步骤:提供基板;在基板的上表面进行第一次镀膜形成第一反射层;在第一反射层的上表面进行第二次镀膜形成间隔层,间隔层的横截面呈楔形结构,楔形结构的厚度沿预设方向呈线性增大;在间隔层的上表面进行第三次镀膜形成第二反射层,得到红外线性渐变滤光片;其中,第二反射层远离基板的表面用于接收入射光,基板远离第一反射层的表面用于发射透射光;第二反射层为第一折射率材料膜层与第二折射率材料膜层交替叠层制成。本发明的红外线性渐变滤光片能连续动态调节光谱分辨率,波长适应广泛。
本发明授权红外线性渐变滤光片及其制备方法在权利要求书中公布了:1.一种红外线性渐变滤光片的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括以下步骤: 提供一透明的基板; 在所述基板的上表面进行第一次镀膜形成第一反射层;其中,第一反射层为第一折射率材料膜层与第二折射率材料膜层交替叠层制成,所述第一折射率材料膜层的折射率小于所述第二折射率材料膜层的折射率; 在所述第一反射层的上表面进行第二次镀膜形成间隔层,所述间隔层的横截面呈楔形结构,所述楔形结构的厚度沿预设方向呈线性增大;其中,所述间隔层为第三折射率材料膜层制成,所述第三折射率材料膜层的折射率小于所述第二折射率材料膜层的折射率; 在所述间隔层的上表面进行第三次镀膜形成第二反射层,得到红外线性渐变滤光片;其中,所述第二反射层远离所述基板的表面用于接收入射光,所述基板远离所述第一反射层的表面用于发射透射光;所述第二反射层为所述第一折射率材料膜层与所述第二折射率材料膜层交替叠层制成; 所述楔形结构形成的渐变楔角为0.2°~0.002°; 所述间隔层厚度d满足以下关系: ; 其中,为系数,为所述间隔层的中心波长,为所述中心波长处的材料的透射率; 所述第一次镀膜和所述第三次镀膜的方式均为通过多次光刻和磁控溅射镀膜工艺制成;所述第二次镀膜为离散化图案镀膜工艺制成; 所述离散化图案镀膜工艺具体为: 通过建立二叉树模型,将所述二叉树模型生成离散膜系组合,利用二值优化算法筛选最优解,得到2EM阶的离散镀膜; 所述预设方向为沿所述间隔层的上表面呈线性增长的方向。
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