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龙图腾网获悉上海高能煜镀科技有限公司申请的专利一种适用于高功率激光的多波段激光窗片获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120527741B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202511006386.1，技术领域涉及：H01S3/034；该发明授权一种适用于高功率激光的多波段激光窗片是由赵家骐;沈新良;陈旭华;陈晓亮;雷萍设计研发完成，并于2025-07-22向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种适用于高功率激光的多波段激光窗片在说明书摘要公布了：本申请涉及光学元件技术领域，具体而言涉及一种适用于高功率激光的多波段激光窗片。本申请公开了一种工作波段为355nm、532nm、1064nm的适用于高功率激光的多波段激光窗片，其基本结构包括基底、主膜系和次膜系，所述主膜系位于所述基底的一侧，所述次膜系位于所述基底上与所述主膜系相对的另一侧，所述主膜系包括按主膜系结构从基底向外依次交替叠加的8层高折射率膜层和低折射率膜层，所述次膜系包括按次膜系结构自基底向外依次交替叠加的8层高折射率膜层和低折射率膜层，该全通光滤光片可以使得在355nm、532nm、1064nm取得99.8%以上得透过率，并达到2ppm的吸收率。

本发明授权一种适用于高功率激光的多波段激光窗片在权利要求书中公布了：1.一种适用于高功率激光的多波段激光窗片，包括基底、主膜系和次膜系，所述主膜系位于所述基底的一侧，所述次膜系位于所述基底上与所述主膜系相对的另一侧，其特征在于，所述适用于高功率激光的多波段激光窗片的膜系结构为:LHLHLHLH|Sub|HL4，工作波段为355nm、532nm、1064nm； 其中，Sub为基底，LHLHLHLH为主膜系，HL4为次膜系，H为HfO2膜层，L为SiO2膜层； 所述主膜系包括按主膜系结构从基底向外依次交替叠加的8层高折射率膜层和低折射率膜层，第1-8层的几何厚度值为:第1层10.17nm、第2层21.64nm、第3层88.37nm、第4层20.55nm、第5层36.27nm、第6层39.14nm、第7层23.04nm、第8层94.92nm； 所述次膜系包括按次膜系结构自基底向外依次交替叠加的8层高折射率膜层和低折射率膜层，第1-8层的几何厚度值为:第1层10.17nm、第2层21.64nm、第3层88.37nm、第4层20.55nm、第5层36.27nm、第6层39.14nm、第7层23.04nm、第8层94.92nm。

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