厦门恒坤新材料科技股份有限公司王廷通获国家专利权
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龙图腾网获悉厦门恒坤新材料科技股份有限公司申请的专利一种抗蚀剂下层膜单体和抗蚀剂下层膜组合物以及图案形成方法获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN120365225B 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510516170.3，技术领域涉及：C07D265/12；该发明授权一种抗蚀剂下层膜单体和抗蚀剂下层膜组合物以及图案形成方法是由王廷通;李禾禾;毛鸿超;王静;曾成财;林伟城;肖清凯;宋里千设计研发完成，并于2025-04-23向国家知识产权局提交的专利申请。
本一种抗蚀剂下层膜单体和抗蚀剂下层膜组合物以及图案形成方法在说明书摘要公布了：本发明属于光刻领域，具体涉及一种抗蚀剂下层膜单体和抗蚀剂下层膜组合物以及图案形成方法。所述抗蚀剂下层膜组合物含有如式1所示的抗蚀剂下层膜单体、芳香族聚合物和溶剂。本发明的关键在于引入含有三蝶烯苯并噁嗪结构的抗蚀剂下层膜单体，一方面高含碳量的三蝶烯结构能够提高抗蚀剂下层膜的抗刻蚀性能，另一方面含有三蝶烯苯并噁嗪结构的抗蚀剂下层膜单体结构稳定性好，且能够在加热条件下发生交联，使得形成的抗蚀剂下层膜具有提升的耐热性和耐刻蚀性能，还降低了抗蚀剂下层膜的亲水性，提高了其与光刻胶表面的粘附性，使得显影后的光刻胶图案不容易倒塌，光刻胶图案的线宽粗糙度LWR较小且形成图案效果好。
本发明授权一种抗蚀剂下层膜单体和抗蚀剂下层膜组合物以及图案形成方法在权利要求书中公布了：1.一种抗蚀剂下层膜单体，其特征在于，所述抗蚀剂下层膜单体具有如式1所示结构： 式1中，R1为C1～C6的烷基或者C6～C30的芳基，R2和R3各自独立地为氢原子、羟基、C1～C10的烷基、含有或未含杂原子的C3～C10的单环或多环的不饱和基团或者R2和R3与它们所连接的苯环一起形成未经取代的或经C6～C30的芳基取代的苯并噁嗪结构，R4和R5各自独立地为氢原子、羟基、含有或未含杂原子的C1～C10的烷基、含有或未含杂原子的C3～C10的单环或多环的不饱和基团或者R4和R5与它们所连接的苯环一起形成未经取代的或经C6～C30的芳基取代的苯并噁嗪结构。
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