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龙图腾网获悉华中科技大学申请的专利一种表面完整性约束的航发叶片磨抛工艺优化方法及系统获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119988833B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202510024399.5，技术领域涉及：G06F18/10；该发明授权一种表面完整性约束的航发叶片磨抛工艺优化方法及系统是由杨吉祥;张俊洁;汤旭;丁汉设计研发完成，并于2025-01-07向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种表面完整性约束的航发叶片磨抛工艺优化方法及系统在说明书摘要公布了：本发明属于但不限于航空技术领域，公开了一种表面完整性约束的航发叶片磨抛工艺优化方法及系统，基于正交中心组合实验数据集建立叶片的材料去除模型。设定机器学习的模型输入输出并对数据进行预处理，通过机器学习XGBoost算法预测磨抛表面完整性。根据MSPSO粒子群多目标优化算法，获取所述优化变量的多组解。根据所述优化变量的多组解，筛选出各个优化目标的优先解，以及符合所有约束和优化目标的全局最优解。本发明通过对磨抛实验数据集的分析，建立了叶片的材料去除模型，标定了材料去除系数。这一模型能够定量描述各工艺参数对材料去除深度的影响，为航发叶片的定量精确磨抛加工提供了理论支持。

本发明授权一种表面完整性约束的航发叶片磨抛工艺优化方法及系统在权利要求书中公布了：1.一种表面完整性约束的航发叶片磨抛工艺优化方法，其特征在于，包括： S1：基于正交中心组合试验CCD设计并获取磨抛工艺参数与表面完整性和材料去除深度间的实验数据集； S2：根据磨抛实验数据集建立叶片的材料去除模型； S3：设定机器学习的模型输入输出：将法向接触力Fn、工具转速Vs、机器人切向进给速度Vf、工具曲率半径R1、工件曲率半径R2、磨粒粒度P作为模型特征输入，表面粗糙度和残余应力作为模型输出； S4：对数据进行预处理：将磨抛实验样本数据随机划分为90％样本的训练集及10％样本的测试集，同时使用Max-Min标准化，对原始数据进行线性变换，归一化至[0,1]内，并保证原有数据结构； S5：通过机器学习XGBoost算法预测磨抛表面完整性； S6：根据MSPSO粒子群多目标优化算法，获取优化变量的多组解；对种群粒子的位置不断更新，进而持续不断的搜索得到最优解； S7：设定优化目标为磨抛后工件的表面粗糙度和残余应力； S8：设定工艺参数和材料去除深度的约束，其中包括法向接触力Fn、工具转速Vs、机器人切向进给速度Vf各工艺参数的限定范围以及材料去除深度约束h； S9：根据所述优化变量的多组解，筛选出各个优化目标的优先解，得到Pareto前沿面图，选择符合所有约束和优化目标的全局最优解。

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