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龙图腾网获悉中山大学申请的专利一种EUV掩模缺陷检测装置获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119534327B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411745168.5，技术领域涉及：G01N21/01；该发明授权一种EUV掩模缺陷检测装置是由周舟;邓淑营;孟凡强;张鹏设计研发完成，并于2024-12-02向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种EUV掩模缺陷检测装置在说明书摘要公布了：本发明公开了一种EUV掩模缺陷检测装置，包括底板、第一基座、安装支架、位移组件和主真空组件，所述第一基座固定于底板上，所述安装支架固定于第一基座顶部，所述主真空组件固定于安装支架顶部，且主真空组件底部通过位移组件与第一基座连接，所述位移组件用于调节主真空组件的Z向位置；还包括第二基座、三角支架和扫描真空组件，所述第二基座固定于底板上，所述三角支架固定于第二基座顶部，所述扫描真空组件固定于三角支架上，且扫描真空组件通过波纹管与主真空组件连接；本发明将扫描真空腔体与主真空腔体分离的方式，使用波纹管避免刚性连接，解决了在曝光过程中由于扫描引起的振动，影响成像质量。

本发明授权一种EUV掩模缺陷检测装置在权利要求书中公布了：1.一种EUV掩模缺陷检测装置，其特征在于： 包括底板（1）、第一基座（2）、安装支架（3）和主真空组件（5），所述第一基座（2）固定于底板（1）上，所述安装支架（3）固定于第一基座（2）顶部，所述主真空组件（5）固定于安装支架（3）顶部； 还包括第二基座（6）、三角支架（7）和扫描真空组件（8），所述第二基座（6）固定于底板（1）上，所述三角支架（7）固定于第二基座（6）顶部，所述扫描真空组件（8）固定于三角支架（7）上，且扫描真空组件（8）通过波纹管与主真空组件（5）连接； 所述主真空组件（5）包括支撑板（9）、主真空腔体（10）、位移组件（4）、第一运动调节机构（11）、第二运动调节机构（12）、第三运动调节机构（13）、光学元件（14）、基板（15）、支撑架（16）和光瞳监测器（17），所述支撑板（9）固定于安装支架（3）上方，所述主真空腔体（10）固定于支撑板（9）上，所述支撑板（9）底部通过安装支架（3）与第一基座（2）连接，所述基板（15）位于主真空腔体（10）的内部，且其底部通过位移组件（4）固定于第一基座（2）上，所述光瞳监测器（17）固定于支撑架（16）上，所述支撑架（16）与第一基座（2）连接，所述基板（15）的中部设有通孔，所述通孔用于光瞳监测器（17）对光束线进行监视，所述第一运动调节机构（11）、第二运动调节机构（12）、第三运动调节机构（13）以及光学元件（14）均固定于基板（15）上； 所述位移组件（4）包括第三基座（18）、Z向位移台（19）和固定支柱（20），所述第三基座（18）的底部通过Z向位移台（19）与第一基座（2）连接，所述固定支柱（20）的底部固定于第三基座（18）上，所述固定支柱（20）的顶部贯穿支撑板（9）、主真空腔体（10）与基板（15）连接，所述固定支柱（20）与主真空腔体（10）的连接处通过波纹管密封； 所述扫描真空组件（8）包括： 扫描真空腔体（21），所述扫描真空腔体（21）通过波纹管与主真空腔体（10）连接，所述扫描真空腔体（21）固定于三角支架（7）上； 第四运动调节机构（22），所述第四运动调节机构（22）固定于扫描真空腔体（21）内部； 探测器（23），所述探测器（23）安装于扫描真空腔体（21）上方，位于成像系统的像平面处，用于记录成像情况； 光束位置监视器（26），所述光束位置监视器（26）安装在光束入站的入口处，用于监视光束入站情况以及光斑的相对位置； 光束入射角监视器（25），设置于主真空腔体（10）的一侧，用于辅助系统装调； 真空阀（24），所述真空阀（24）安装于光束入站的入口处，用于将腔体与光源隔离，防止在显微成像系统的安装调试中对腔体真空的重复充放过程影响光源的工作环境。

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