宝虹科技股份有限公司吕理宏获国家专利权
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龙图腾网获悉宝虹科技股份有限公司申请的专利原子层沉积的制程设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223373224U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422849269.9，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型原子层沉积的制程设备是由吕理宏;游克强;余兴政设计研发完成，并于2024-11-21向国家知识产权局提交的专利申请。
本原子层沉积的制程设备在说明书摘要公布了：一种原子层沉积的制程设备，包括一反应腔、一原子层沉积模块以及一固定单元。该反应腔包括一左部分、一右部分及一由该左部分与该右部分构成的沉积室。该原子层沉积模块设置于该沉积室之中，该原子层沉积模块包括一左喷淋座以及一右喷淋座，该左喷淋座设置于该左部分而位于一左侧空间，该右喷淋座设置于该右部分而位于一右侧空间，且相隔于该左喷淋座。该固定单元设置于该反应腔的该沉积室的一底部，该固定单元夹持一直立地放置于该左喷淋座与该右喷淋座之间的待沉积的基板。
本实用新型原子层沉积的制程设备在权利要求书中公布了：1.一种原子层沉积的制程设备，其特征在于，包括： 一反应腔，包括一左部分、一右部分及一由该左部分与该右部分构成的沉积室； 一原子层沉积模块，设置于该沉积室之中，该原子层沉积模块包括： 一左喷淋座，设置于该左部分而位于一左侧空间；以及 一右喷淋座，设置于该右部分而位于一右侧空间，且相隔于该左喷淋座；以及 一固定单元，设置于该反应腔的该沉积室的一底部，该固定单元夹持一直立地放置于该左喷淋座与该右喷淋座之间的待沉积的基板，其中，该基板在横向上与该左喷淋座与该右喷淋座相隔。
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