光驰半导体技术(上海)有限公司莫姗获国家专利权
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龙图腾网获悉光驰半导体技术(上海)有限公司申请的专利原子层沉积镀膜设备获国家实用新型专利权，本实用新型专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN223373223U 。
龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的实用新型授权公告中获悉：该实用新型的专利申请号/专利号为：202422786917.0，技术领域涉及：C23C16/455；该实用新型原子层沉积镀膜设备是由莫姗;秦志勇;杨启忠设计研发完成，并于2024-11-15向国家知识产权局提交的专利申请。
本原子层沉积镀膜设备在说明书摘要公布了：本实用新型涉及真空镀膜技术领域，公开一种原子层沉积镀膜设备，包括搬送室和叠设于搬送室上方的真空室，在搬送室内设置升降装置，降低设备高度，减少空间浪费；当真空室与搬送室连通，升降装置能搬送基板升高至真空室内，并使基板在真空室进行镀膜后，升降装置能搬送基板下降至搬送室内；搬送室顶部设有破空孔，用于向搬送室内通入洁净空气，解除原子层沉积镀膜设备的真空状态，方便打开搬送室取放基板；搬送室底部设有抽气孔，用于抽出搬送室内的气体使搬送室内恢复真空负压状态，同时控制搬送室内气体流动方向，使气体从上往下抽走，达到有效阻断灰尘杂质粒子污染搬送室中间摆放的基板的效果；设备制作及结构安装简单快捷，成本较低。
本实用新型原子层沉积镀膜设备在权利要求书中公布了：1.原子层沉积镀膜设备，其特征在于，包括： 搬送室100，所述搬送室100用于放置基板；所述搬送室100内设置有升降装置110，所述升降装置110用于搬送所述基板沿竖直方向往复运动；所述搬送室100的室壁顶部设置有破空孔102，所述破空孔102用于向所述搬送室100内通入洁净空气；所述搬送室100的室壁底部设置有抽气孔103，所述抽气孔103用于抽出所述搬送室100内的气体； 真空室，所述真空室叠设于所述搬送室100的上方，所述真空室的底部与所述搬送室100的顶部选择性地连通，当所述真空室的底部与所述搬送室100的顶部连通时，所述升降装置110能搬送所述基板升高至所述真空室内，并在所述基板进行镀膜后，所述升降装置110能搬送所述基板下降至所述搬送室100内。
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