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龙图腾网获悉北京智芯微电子科技有限公司;浙江大学申请的专利集成电路合成扫描电镜图生成方法、装置、设备及介质获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119693492B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411574414.5，技术领域涉及：G06T11/20；该发明授权集成电路合成扫描电镜图生成方法、装置、设备及介质是由陈燕宁;刘芳;吴波;牟芝平;任堃;高大为;邓永峰;章明瑞;罗宗兰设计研发完成，并于2024-11-06向国家知识产权局提交的专利申请。

本集成电路合成扫描电镜图生成方法、装置、设备及介质在说明书摘要公布了：本公开涉及半导体制造技术领域，具体涉及一种集成电路合成扫描电镜图生成方法、装置、设备及介质，所述方法包括：通过获取版图参数，并根据版图参数确定测试图像。对测试图像中版图轮廓中的目标转角进行圆角处理，以获取圆角处理图像；对圆角处理图像中版图轮廓进行粗糙度调整，以获取粗糙度调整图像；对粗糙度调整图像添加灰度值强度背景信息，以获取灰度调整图像；对灰度调整图像添加噪声信息，以获取集成电路合成扫描电镜图。上述方案可以从确保得到的集成电路合成扫描电镜图较为逼真，使部分研究项目能够在无需使用CDSEM的前提下，基于集成电路合成扫描电镜图进行分析，从而加快了研究项目的推进速度，降低了研究项目的成本。

本发明授权集成电路合成扫描电镜图生成方法、装置、设备及介质在权利要求书中公布了：1.一种集成电路合成扫描电镜图生成方法，其特征在于，包括： 获取版图参数，并根据所述版图参数确定测试图像，所述测试图像包括与所述版图参数匹配的版图； 对所述测试图像中版图轮廓中的目标转角进行圆角处理，以获取圆角处理图像，所述目标转角为版图轮廓中除因截取测试图像产生的转角以外的其他转角； 对所述圆角处理图像中版图轮廓进行粗糙度调整，以获取粗糙度调整图像； 对所述粗糙度调整图像添加灰度值强度背景信息，以获取灰度调整图像； 对所述灰度调整图像添加噪声信息，以获取集成电路合成扫描电镜图； 所述对所述圆角处理图像中版图轮廓进行粗糙度调整，以获取粗糙度调整图像，包括： 获取圆角处理图像中版图轮廓中的目标像素至与目标像素最近的版图轮廓边缘的距离r； 基于cr＝rms2*e-rξ2ar获取像素位置偏移量cr，其中rms为预设的均方根表面粗糙度，ξ为预设的自相关长度，a为预设的粗糙度指数，其中e为自然常数； 确定目标像素的像素偏移方向，所述像素偏移方向从目标像素的像素位置指向目标像素在与目标像素最近的版图轮廓边缘上的投影点； 基于目标像素的像素位置、所述像素位置偏移量cr以及所述像素偏移方向获取粗糙度调整像素位置； 将所述圆角处理图像中目标像素的像素位置设置为所述粗糙度调整像素位置，以获取粗糙度调整图像。

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