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龙图腾网获悉芯微半导体(南宁)有限公司申请的专利一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设备获国家发明授权专利权，本发明授权专利权由国家知识产权局授予，授权公告号为：CN119491194B 。

龙图腾网通过国家知识产权局官网在2025-09-23发布的发明授权授权公告中获悉：该发明授权的专利申请号/专利号为：202411540156.9，技术领域涉及：C23C14/35；该发明授权一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设备是由刘俊明;梁明敏;赵杰设计研发完成，并于2024-10-31向国家知识产权局提交的专利申请。

本一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设备在说明书摘要公布了：本发明涉及磁控溅射镀膜技术领域，具体为一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设备；包括真空腔体和连接防护腔，连接防护腔固接于真空腔体上方；真空腔体内转动连接有旋转盘,真空腔体内设置有与旋转盘相配合的第一旋转机构；旋转盘上固接有多个固定控制块,固定控制块上均设置有基板,固定控制块上均设置有与相对应基板相配合的角度调节机构；真空腔体内设置有靶材固定盘,靶材固定盘位于其中一个基板上方并与其同心对应；连接防护腔内设置有与靶材固定盘相配合的第一升降机构。

本发明授权一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设备在权利要求书中公布了：1.一种改善靶材磁控溅射厚度和均匀性方法的设备；其特征在于：包括真空腔体1和连接防护腔2，连接防护腔2固接于真空腔体1上方；真空腔体1内转动连接有旋转盘11,真空腔体1内设置有与旋转盘11相配合的第一旋转机构；旋转盘11上固接有多个固定控制块10,固定控制块10上均设置有基板9,固定控制块10上均设置有与相对应基板9相配合的角度调节机构；真空腔体1内设置有靶材固定盘21,靶材固定盘21位于其中一个基板9上方并与其同心对应；靶材固定盘21内设置有相配合靶材安装槽和溅射腔28；靶材固定盘21上滑动连接有一对与靶材安装槽相配合的靶材定位块22,靶材定位块22内设置有与靶材固定盘21相配合的第一定位机构；连接防护腔2内设置有与靶材固定盘21相配合的第一升降机构； 第一定位机构包括靶材固定盘21上滑动连接的定位柱24、第一滑动盘25和活动拉杆27，定位柱24、第一滑动盘25和活动拉杆27均同轴固接，定位柱24和活动拉杆27分别位于第一滑动盘25两侧；活动拉杆27外套接有复位弹簧26,复位弹簧26一端与第一滑动盘25固接，复位弹簧26另一端与靶材定位块22固接；靶材固定盘21上设置有与靶材定位块22相配合弧线滑槽；靶材固定盘21上设置有与定位柱24相配合的定位孔。

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